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公开(公告)号：CN115552053B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202180035097.8
申请日：2021-04-20
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种当在有机层表面形成透明导电氧化物膜时，可尽量抑制有机层受损的磁控溅射装置(SM1)。阴极单元Sc具有在X轴方向上以规定间隔并列设置的筒状靶(Tg1、Tg2)，设置有分别旋转驱动筒状靶围绕Y轴旋转的驱动装置(Db1、Db2)，且磁铁单元(Mu1、Mu2)分别装配在各筒状靶内，成对的磁铁单元各自具有中央磁铁(5a)和周边磁铁(5b)，在筒状靶和成膜面之间的空间内形成隧道状的磁场(Mf)，成对的磁铁单元各自被配置为使得当在成膜对象物(Sw)相对于阴极单元静止相对向的状态下成膜时，在经过成膜面内薄膜厚度最厚位置的Z轴上Z轴分量的磁场强度为零。
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公开(公告)号：CN110366774B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201880015142.1
申请日：2018-11-26
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , C23C14/34
Abstract: 本发明提供基板不会破损且能够在短时间从真空气氛改变成大气压气氛的真空装置。在处理对象物（10）和供气排气口（9）之间配置第一整流板（5），使得从供气排气口（9）喷出的升压用气体不会与搬运对象物（10）碰撞。在盖部件（16）的壁面和搬运对象物（10）之间设置第二整流板（6），使升压用气体从比搬运对象物（10）中的基板（7）高的上侧贯通孔（13）、比该基板（7）低的下侧贯通孔（23）向基板（7）和第一整流板（5）之间、基板（7）和台（15）之间导入，基板（7）不会抬起。
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公开(公告)号：CN110678576B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201880036045.0
申请日：2018-06-13
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器（11）分别以水平状态向第一运送方向（P1）运送的往路侧运送部（33a）、向与第一运送方向（P1）相反的第二运送方向（P2）运送的返路侧运送部（33c）、从往路侧运送部（33a）朝向返路侧运送部（33c）的运送折返部（30B），借助基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）运送基板保持器（11）。将具有第二驱动部（46）的方向转换机构（40）设置在运送折返部（30B）的附近。使基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）和方向转换机构（40）的第二驱动部（46）同步而动作，将第一以及第二被驱动轴（12、13）沿方向转换机构（40）的第一以及第二方向转换通路（51、52）分别引导运送，将基板保持器（11）在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。
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公开(公告)号：CN109923238B
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201780067947.6
申请日：2017-11-06
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/56 , B65G49/00 , H01L21/677
Abstract: 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽（2）内具备对保持于基板保持器（11）的基板（10）上进行成膜的第1及第2成膜区域（4、5）、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域（4、5）的搬运路径、在使多个基板保持器（11）水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构（3）。基板保持器搬运机构（3）具备与设置于各基板保持器（11）的被驱动部接触而使基板保持器（11）向移动方向推压来移动的多个驱动部，该驱动部关于相邻的基板保持器（11），以移动方向下游侧的基板保持器（11）的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器（11）的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域（4、5）搬运。
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公开(公告)号：CN108350567B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201780003863.6
申请日：2017-08-08
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , C23C14/04 , C23C14/56 , H01L21/203 , H01L31/0747 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供了一种能够不使形成在成膜对象基板的两表面侧的溅射膜彼此发生短路并廉价地进行成膜的技术。在本发明中，在基板保持器运送机构3，由第1运送部以通过第1成膜区域的方式运送基底保持器11，通过溅射对保持于基板保持器11的成膜对象基板50的第1表面上进行成膜，使基板保持器11在维持上下关系的状态下从第1运送部向第2运送部折返运送，由第2运送部以通过第2成膜区域的方式向沿与第1运送部的运送方向相反方向运送基板保持器11，在成膜对象基板50的第2表面上进行基于溅射的成膜。基板保持器11具有露出成膜对象基板50的第1表面及第2表面的开口部14、15，并且设有遮蔽对于成膜对象基板50的边缘部的来自第2溅射源的成膜材料的遮蔽部16。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108603281B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201780008156.6
申请日：2017-03-23
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , C23C14/08 , C23C16/24 , H01L31/0224
Abstract: 在本发明的带透明导电膜基板的制造方法中，准备基体，所述基体具有表面及背面，并且具有覆盖所述表面及所述背面中的至少一个面的a‑Si膜；在具有含氢工艺气体的成膜空间中，将所述基体及所述a‑Si膜的温度范围设定为70～220℃，对靶材施加溅射电压进行直流溅射，在所述a‑Si膜上形成透明导电膜。
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公开(公告)号：CN110678576A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201880036045.0
申请日：2018-06-13
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器（11）分别以水平状态向第一运送方向（P1）运送的往路侧运送部（33a）、向与第一运送方向（P1）相反的第二运送方向（P2）运送的返路侧运送部（33c）、从往路侧运送部（33a）朝向返路侧运送部（33c）的运送折返部（30B），借助基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）运送基板保持器（11）。将具有第二驱动部（46）的方向转换机构（40）设置在运送折返部（30B）的附近。使基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）和方向转换机构（40）的第二驱动部（46）同步而动作，将第一以及第二被驱动轴（12、13）沿方向转换机构（40）的第一以及第二方向转换通路（51、52）分别引导运送，将基板保持器（11）在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。
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公开(公告)号：CN110408896A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201910327419.0
申请日：2019-04-23
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明公开带透明导电膜基板及其制造设备和方法以及太阳能电池。该带透明导电膜基板具备对载置于托盘的状态下的基体进行热处理的第三调温装置、以及对基体的正面侧及背面侧分别形成第一透明导电膜及第二透明导电膜的第一成膜装置及第二成膜装置。在成膜室内的第一靶附近，第一工艺气体导入机构的气体导出部在基体的移动方向上配设在朝向第一靶中的位于左侧的靶喷射第一工艺气体的位置上。在成膜室内的第二靶附近，配设有第二工艺气体导入机构的气体导出部。第一靶和第二靶配置在成膜室内，从而在基体经过第一靶的前面时通过溅射法对基体的正面侧形成第一透明导电膜，在基体经过第二靶的前面时通过溅射法对基体的背面侧形成第二透明导电膜。
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公开(公告)号：CN110223935A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201910137650.3
申请日：2019-02-25
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/67
Abstract: 课题是提供一种即使将气体的导入速度或排气速度加快、基板也不浮起的真空处理装置。解决手段如下。在运入运出室（2）的盖部件（11）设置具有弹性的推压部（20a、20b），当盖部件（11）与处理对象物（4）接近时，推压部（20a、20b）将配置在处理对象物（4）的托盘（27）上的基板（10a、10b）向托盘（27）推压。当在此状态下向运入运出室（2）的内部导入气体或将运入运出室（2）的内部的气体排出时，即使由气体的流动或压力差对基板（10a、10b）朝上附加力，也不会有基板（10a、10b）浮起的情况。
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公开(公告)号：CN107794511A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710795258.9
申请日：2017-09-06
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521 , C23C14/568 , C23C14/08 , C23C14/165 , C23C14/3464 , C23C14/541 , H01L31/022425
Abstract: 本发明提供一种在借助溅射在成膜对象基板上形成金属层的情况下能够高效且可靠地进行冷却的技术。在形成有单一的真空气氛的真空槽(2)内具备基板保持器输送机构(3)，该基板保持器输送机构(3)具有沿着输送路径将保持成膜对象基板(50)的基板保持器(11)向既定方向输送的去路侧输送部(33a)、沿着输送路径将基板保持器(11)向与去路侧输送部(33a)的输送方向相反的方向输送的回路侧输送部(33c)、以及将基板保持器(11)以维持上下关系的状态从去路侧输送部(33a)朝向回路侧输送部(33c)折返地输送的输送折返部(30B)。以去路侧输送部(33a)通过冷却区域(7)且回路侧输送部(33c)通过第1以及第2金属层成膜区域(4、5)的方式设置。
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