真空处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111971415A

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201980024156.4

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本发明提供一种能够在真空处理装置中抑制在运送基板保持器时产生粉尘的技术,所述真空处理装置,具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径,并沿着该运送路径运送多个基板保持器。在本发明中,在具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径并形成有单一的真空环境气体的真空槽2内,具有安装在第一驱动部36上的防下垂构件35,第一驱动部36设置在该运送路径的相对于运送方向的外侧。防下垂构件35的行驶滚轮54被引导部17引导支撑来进行行驶,引导部17设置在回程侧运送部33c的下方并沿着第二运送方向P2延伸,回程侧运送部33c位于基板保持器运送机构3的下方侧,第一驱动部36与基板保持器11的第一被驱动部12接触,从而沿着运送路径向第二运送方向P2驱动基板保持器11。

    真空处理装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110678576B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN201880036045.0

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中,效率良好地对基板的两个表面进行处理,实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器(11)分别以水平状态向第一运送方向(P1)运送的往路侧运送部(33a)、向与第一运送方向(P1)相反的第二运送方向(P2)运送的返路侧运送部(33c)、从往路侧运送部(33a)朝向返路侧运送部(33c)的运送折返部(30B),借助基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)运送基板保持器(11)。将具有第二驱动部(46)的方向转换机构(40)设置在运送折返部(30B)的附近。使基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)和方向转换机构(40)的第二驱动部(46)同步而动作,将第一以及第二被驱动轴(12、13)沿方向转换机构(40)的第一以及第二方向转换通路(51、52)分别引导运送,将基板保持器(11)在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部(33a)向返路侧运送部(33c)交付。

    成膜装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109923238B

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201780067947.6

    申请日:2017-11-06

    Abstract: 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器(11)的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域(4、5)的搬运路径、在使多个基板保持器(11)水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构(3)。基板保持器搬运机构(3)具备与设置于各基板保持器(11)的被驱动部接触而使基板保持器(11)向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器(11),以移动方向下游侧的基板保持器(11)的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器(11)的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域(4、5)搬运。

    真空处理装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111971415B

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN201980024156.4

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本发明提供一种能够在真空处理装置中抑制在运送基板保持器时产生粉尘的技术,所述真空处理装置,具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径,并沿着该运送路径运送多个基板保持器。在本发明中,在具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径并形成有单一的真空环境气体的真空槽2内,具有安装在第一驱动部36上的防下垂构件35,第一驱动部36设置在该运送路径的相对于运送方向的外侧。防下垂构件35的行驶滚轮54被引导部17引导支撑来进行行驶,引导部17设置在回程侧运送部33c的下方并沿着第二运送方向P2延伸,回程侧运送部33c位于基板保持器运送机构3的下方侧,第一驱动部36与基板保持器11的第一被驱动部12接触,从而沿着运送路径向第二运送方向P2驱动基板保持器11。

    真空处理装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110678576A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201880036045.0

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中,效率良好地对基板的两个表面进行处理,实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器(11)分别以水平状态向第一运送方向(P1)运送的往路侧运送部(33a)、向与第一运送方向(P1)相反的第二运送方向(P2)运送的返路侧运送部(33c)、从往路侧运送部(33a)朝向返路侧运送部(33c)的运送折返部(30B),借助基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)运送基板保持器(11)。将具有第二驱动部(46)的方向转换机构(40)设置在运送折返部(30B)的附近。使基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)和方向转换机构(40)的第二驱动部(46)同步而动作,将第一以及第二被驱动轴(12、13)沿方向转换机构(40)的第一以及第二方向转换通路(51、52)分别引导运送,将基板保持器(11)在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部(33a)向返路侧运送部(33c)交付。

    真空处理装置
    6.
    发明公开
    真空处理装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN114709124A

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202210309507.X

    申请日:2018-06-13

    Abstract: 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中,效率良好地对基板的两个表面进行处理,实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器(11)分别以水平状态向第一运送方向(P1)运送的往路侧运送部(33a)、向与第一运送方向(P1)相反的第二运送方向(P2)运送的返路侧运送部(33c)、从往路侧运送部(33a)朝向返路侧运送部(33c)的运送折返部(30B),借助基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)运送基板保持器(11)。将具有第二驱动部(46)的方向转换机构(40)设置在运送折返部(30B)的附近。使基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)和方向转换机构(40)的第二驱动部(46)同步而动作,将第一以及第二被驱动轴(12、13)沿方向转换机构(40)的第一以及第二方向转换通路(51、52)分别引导运送,将基板保持器(11)在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部(33a)向返路侧运送部(33c)交付。

    成膜装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111647870A

    公开(公告)日:2020-09-11

    申请号:CN202010542182.0

    申请日:2017-11-06

    Abstract: 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域的搬运路径、在使多个基板保持器水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构。基板保持器搬运机构具备与设置于各基板保持器的被驱动部接触而使基板保持器向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器,以移动方向下游侧的基板保持器的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域搬运。

    成膜装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109923238A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201780067947.6

    申请日:2017-11-06

    Abstract: 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器(11)的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域(4、5)的搬运路径、在使多个基板保持器(11)水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构(3)。基板保持器搬运机构(3)具备与设置于各基板保持器(11)的被驱动部接触而使基板保持器(11)向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器(11),以移动方向下游侧的基板保持器(11)的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器(11)的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域(4、5)搬运。

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