公开(公告)号：CN111971415A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN201980024156.4

申请日：2019-09-02

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高木大 ,  水岛优 ,  小泉敏行

IPC: C23C14/56 ,  B65G17/06 ,  B65G17/48 ,  B65G49/07 ,  C23C14/50 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够在真空处理装置中抑制在运送基板保持器时产生粉尘的技术，所述真空处理装置，具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径，并沿着该运送路径运送多个基板保持器。在本发明中，在具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径并形成有单一的真空环境气体的真空槽2内，具有安装在第一驱动部36上的防下垂构件35，第一驱动部36设置在该运送路径的相对于运送方向的外侧。防下垂构件35的行驶滚轮54被引导部17引导支撑来进行行驶，引导部17设置在回程侧运送部33c的下方并沿着第二运送方向P2延伸，回程侧运送部33c位于基板保持器运送机构3的下方侧，第一驱动部36与基板保持器11的第一被驱动部12接触，从而沿着运送路径向第二运送方向P2驱动基板保持器11。

公开(公告)号：CN111971415B

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN201980024156.4

申请日：2019-09-02

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 高木大 ,  水岛优 ,  小泉敏行

IPC: C23C14/56 ,  B65G17/06 ,  B65G17/48 ,  B65G49/07 ,  C23C14/50 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够在真空处理装置中抑制在运送基板保持器时产生粉尘的技术，所述真空处理装置，具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径，并沿着该运送路径运送多个基板保持器。在本发明中，在具有以相对于铅垂面的投影形状呈连续的环状的方式形成的运送路径并形成有单一的真空环境气体的真空槽2内，具有安装在第一驱动部36上的防下垂构件35，第一驱动部36设置在该运送路径的相对于运送方向的外侧。防下垂构件35的行驶滚轮54被引导部17引导支撑来进行行驶，引导部17设置在回程侧运送部33c的下方并沿着第二运送方向P2延伸，回程侧运送部33c位于基板保持器运送机构3的下方侧，第一驱动部36与基板保持器11的第一被驱动部12接触，从而沿着运送路径向第二运送方向P2驱动基板保持器11。

公开(公告)号：CN101626969A

公开(公告)日：2010-01-13

申请号：CN200880007493.4

申请日：2008-02-20

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 小泉敏行 ,  新仓高一

IPC: B65G49/06 ,  H01L21/677

CPC classification number: B65G49/063 ,  B65G2249/02 ,  C23C14/50 ,  C23C14/562 ,  H01L21/67742

Abstract: 本发明提供一种省空间且能够搬送大型基板的真空装置。本发明的真空装置(20)各具有多个下部辊、推压辊及推压机构，基板(7)在搬送辊(23)和搬送辊(23)之间的位置被夹入下部辊和推压辊之间，因而基板(7)不翻倒。基板(7)与推压辊接触，回推推压辊，被夹入推压辊和下部辊之间，因而基板(7)被夹入时不破损。

公开(公告)号：CN301641547S

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN201030528683.0

申请日：2010-09-15

Applicant: 株式会社爱发科

Designer： 小泉敏行 ,  藤野洋 ,  中袴田広巳

Abstract: 1.本外观设计产品为真空处理室。2.本外观设计产品用作成膜装置的一部分，其起到，例如，成膜装置内的待处理目标物体的入口室或出口室的作用。3.本申请外观设计的要点在于其形状和构造。4.本申请包括两项外观设计，其中设计1为基本设计。5.设计1的立体图1为代表图。