等离子体源机构及成膜装置

    公开(公告)号:CN101904227A

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200880122593.1

    申请日:2008-12-12

    Abstract: 本发明提供一种使用能够再现性良好地生成大面积的等离子体,由此能够适用于广泛的用途的廉价的等离子体源的等离子体处理技术。本发明的等离子体源机构(1)能够适用于具有真空槽(20)的真空装置(21),该等离子体源机构(1)具有矩形环状的天线部(12)和磁石部(11),天线部(12)经由电介质部(10)而配置在真空槽(20)的外侧,能够施加高频电力,磁石部(11)在真空槽(20)的外侧经由电介质部(10)而配置在天线部(12)的附近,具有与天线部(12)相对应的矩形形状。天线部(12)的第1和第2天线线圈(14、15)邻接而接近配置,并且,第1和第2天线线圈(14、15)并联连接。

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