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公开(公告)号：CN115917232A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180048573.X
申请日：2021-04-30
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: F26B5/06
Abstract: 使原料液的液滴维持超高速的冷却速度且在短的下落距离下冻结，而不使溶质、分散质的特性变质。本发明的一方式的真空冻结干燥方法，具有如下工序：在真空槽内从喷射喷嘴射出原料液，生成由所述原料液的自行冻结形成的冻结微粒，使生成的该冻结微粒干燥来制造干燥粉体，其中，在将真空槽内维持为与所述原料液的自行冻结温度对应的水蒸气分压的状态下，以来自喷射喷嘴的原料液的射出初速度为6m/秒以上且33m/秒以下的方式从喷射喷嘴射出原料液，当生成的冻结微粒的最大直径超过规定值，或者原料液的液滴未冻结时，为了生成最大直径为所述规定值以下的冻结微粒，对来自喷射喷嘴的原料液的射出流量或喷射喷嘴的性状进行调整。
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公开(公告)号：CN102272350B
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201080004227.3
申请日：2010-01-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/44 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/4401 , C23C16/45565 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J2237/3321
Abstract: 本发明提供一种等离子CVD装置，其真空室采用分体结构，喷射板很容易装到真空室内部或从中取出。本发明一个实施方式的等离子CVD装置(3)具有由第一和第二真空室部件(11、12)的接合体构成的真空室(10)。经由设置在第二真空室部件(12)的非接合面一侧的侧面(122)上的取出部(5)可将喷射板(61)从内部空间中取出。因此，喷射板(61)无需采用分体结构，也能容易地进行将该喷射板(61)装入真空室(10)的内部空间或从中取出的作业。
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公开(公告)号：CN102272350A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201080004227.3
申请日：2010-01-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C16/44 , H01L21/205 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/4401 , C23C16/45565 , C23C16/5096 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J2237/3321
Abstract: 本发明提供一种等离子CVD装置，其真空室采用分体结构，喷射板很容易装到真空室内部或从中取出。本发明一个实施方式的等离子CVD装置(3)具有由第一和第二真空室部件(11、12)的接合体构成的真空室(10)。经由设置在第二真空室部件(12)的非接合面一侧的侧面(122)上的取出部(5)可将喷射板(61)从内部空间中取出。因此，喷射板(61)无需采用分体结构，也能容易地进行将该喷射板(61)装入真空室(10)的内部空间或从中取出的作业。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101916716A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010246804.1
申请日：2005-05-24
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供一种真空处理装置，是具备真空处理室(20、22、24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10)，其特征是，在预备室(14)内以及真空处理室(20、22、24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时，在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。
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公开(公告)号：CN1702024A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510073790.7
申请日：2005-05-24
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种真空处理装置，是具备真空处理室(20)、(22)、(24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10)，其特征是，在预备室(14)内以及真空处理室(20)、(22)、(24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时，在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。
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公开(公告)号：CN105555996B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201480047603.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/568 , H01J37/32908 , H01J37/342 , H01J37/3435 , H01J37/3444
Abstract: 基板处理装置具备框体(21)以及位于框体内部的中空的摆动臂(23)。摆动臂包括与框体连接的中空的摆动中心轴部(23a)以及作为摆动端的中空的连结轴部(23b)。进一步，基板处理装置具备处理部(22)，该处理部(22)位于框体内部，并且在与基板面对的处理空间，沿与摆动中心轴部的轴向(P)正交的方向移动而对基板实施处理。处理部以追随处理部的移动而使连结轴部(23b)能够与处理部平移的方式与连结轴部连结。因此，通过处理部(22)的移动而使摆动臂线路，该连接线路位于摆动臂(23)内部，通过摆动中心轴部(23a)内部而与位于框体外部的共用设备连接、且通过连结轴部(23b)内部而与处理部连接。(23)进行摆动。进一步，基板处理装置具备连接
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公开(公告)号：CN105555996A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480047603.5
申请日：2014-09-17
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/568 , H01J37/32908 , H01J37/342 , H01J37/3435 , H01J37/3444
Abstract: 基板处理装置具备框体(21)以及位于框体内部的中空的摆动臂(23)。摆动臂包括与框体连接的中空的摆动中心轴部(23a)以及作为摆动端的中空的连结轴部(23b)。进一步，基板处理装置具备处理部(22)，该处理部(22)位于框体内部，并且在与基板面对的处理空间，沿与摆动中心轴部的轴向(P)正交的方向移动而对基板实施处理。处理部以追随处理部的移动而使连结轴部(23b)能够与处理部平移的方式与连结轴部连结。因此，通过处理部(22)的移动而使摆动臂(23)进行摆动。进一步，基板处理装置具备连接线路，该连接线路位于摆动臂(23)内部，通过摆动中心轴部(23a)内部而与位于框体外部的共用设备连接、且通过连结轴部(23b)内部而与处理部连接。
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公开(公告)号：CN1702024B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200510073790.7
申请日：2005-05-24
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种真空处理装置，是具备真空处理室(20)、(22)、(24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10)，其特征是，在预备室(14)内以及真空处理室(20)、(22)、(24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时，在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。
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