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公开(公告)号：CN101667527B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200910161644.8
申请日：2009-07-24
Applicant: 株式会社日立显示器 , 松下液晶显示器株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种显示装置的修正方法及其装置，能够大幅度扩大修正的区域、材料或种类等的适用范围。本发明的显示装置的修正装置，用于对在衬底的表面上形成了具有图案缺陷的电子电路图案的显示装置的上述图案缺陷进行修正，包括通过对上述图案缺陷的区域局部地照射等离子体而修正上述图案缺陷的等离子体照射单元。
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公开(公告)号：CN101667527A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200910161644.8
申请日：2009-07-24
Applicant: 株式会社日立显示器
Abstract: 本发明的目的在于提供一种显示装置的修正方法及其装置，能够大幅度扩大修正的区域、材料或种类等的适用范围。本发明的显示装置的修正装置，用于对在衬底的表面上形成了具有图案缺陷的电子电路图案的显示装置的上述图案缺陷进行修正，包括通过对上述图案缺陷的区域局部地照射等离子体而修正上述图案缺陷的等离子体照射单元。
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公开(公告)号：CN1755437A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510078160.9
申请日：2005-06-17
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。
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公开(公告)号：CN100419503C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200510078160.9
申请日：2005-06-17
Applicant: 株式会社日立显示器
IPC: G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。
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