公开(公告)号：CN100419503C

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200510078160.9

申请日：2005-06-17

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 中须信昭 ,  山田薰 ,  田中雄一郎 ,  新井武 ,  朴木秀行 ,  吉村和士 ,  川村彻也 ,  大川政德

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1333

Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。

公开(公告)号：CN1523401A

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：CN03154832.6

申请日：2003-08-20

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 川邊俊一 ,  朴木秀行 ,  東人士 ,  新井好宏 ,  小林節郎

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1341

CPC classification number: G02F1/1341 ,  G02F1/1339

Abstract: 使用基板，该基板在显示区域中的液晶滴下位置附近形成控制液晶流动的流动控制壁，或者在密封材料和显示区域之间形成框状的流动控制壁，通过液晶滴下到显示区域后，在真空中进行粘合，粘合后，在大气中取出，进行对两片基板加压和扩散液晶。通过液晶流动控制壁控制液晶的流动，抑制由于未硬化的密封材料和液晶接触所引起的液晶污染，抑制显示不良。

公开(公告)号：CN1755437A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200510078160.9

申请日：2005-06-17

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 中须信昭 ,  山田薰 ,  田中雄一郎 ,  新井武 ,  朴木秀行 ,  吉村和士 ,  川村彻也 ,  大川政德

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1333

Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。