公开(公告)号：CN1755437A

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN200510078160.9

申请日：2005-06-17

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 中须信昭 ,  山田薰 ,  田中雄一郎 ,  新井武 ,  朴木秀行 ,  吉村和士 ,  川村彻也 ,  大川政德

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1333

Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。

公开(公告)号：CN100419503C

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：CN200510078160.9

申请日：2005-06-17

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 中须信昭 ,  山田薰 ,  田中雄一郎 ,  新井武 ,  朴木秀行 ,  吉村和士 ,  川村彻也 ,  大川政德

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1333

Abstract: 提供一种图形修正装置和显示装置的制造方法，在由两条栅布线和两条漏布线包围的区域中有像素，对相邻像素电极的短路缺陷，经过具有与该短路部分的栅布线和漏布线及像素电极的图形相对应的透射图形的掩模进行激光照射使短路部分去除。上述短路部分的去除，可通过利用检查装置发出的信息与正常的图形进行比较而了解到，并可以对在基板上形成的图形缺陷自动进行修正。因此，通过将上述方法应用于显示装置的制造工序，特别是光刻胶图形形成工序，可以实现具有高质量的吸收特性的显示装置。