公开(公告)号：CN100477105C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200480007523.3

申请日：2004-03-04

Applicant: 株式会社日立国际电气

Inventor： 丰田一行 ,  岛信人 ,  石丸信雄 ,  金野义和 ,  竹林基成 ,  野田孝晓 ,  水野谦和

IPC: H01L21/31 ,  H01F27/00

CPC classification number: H01L21/67253 ,  C23C16/50 ,  H01F19/08 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置和器件的制造方法。该衬底处理装置能将远程等离子体和在整个处理室产生的等离子体的优点结合起来，实现良好的处理。该衬底处理装置具有：从外侧包围处理空间(1)地设置的、连接在地线上的导电性构件(10)和设置于上述导电性构件内侧的一对电极(4)。绝缘变压器(7)的初级线圈电连接在上述高频电源部(14)上，次级线圈电连接在上述电极(4)上。在连接次级线圈和电极(4)的连接线上连接有切换开关(13)。通过使用切换开关(13)切换连接线与地线的连接/非连接，能切换处理空间(1)中的等离子体产生区域。

公开(公告)号：CN1762044A

公开(公告)日：2006-04-19

申请号：CN200480007523.3

申请日：2004-03-04

Applicant: 株式会社日立国际电气

Inventor： 丰田一行 ,  岛信人 ,  石丸信雄 ,  金野义和 ,  竹林基成 ,  野田孝晓 ,  水野谦和

IPC: H01L21/31 ,  H01F27/00

CPC classification number: H01L21/67253 ,  C23C16/50 ,  H01F19/08 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置和器件的制造方法。该衬底处理装置能将远程等离子体和在整个处理室产生的等离子体的优点结合起来，实现良好的处理。该衬底处理装置具有：从外侧包围处理空间(1)地设置的、连接在地线上的导电性构件(10)和设置于上述导电性构件内侧的一对电极(4)。绝缘变压器(7)的初级线圈电连接在上述高频电源部(14)上，次级线圈电连接在上述电极(4)上。在连接次级线圈和电极(4)的连接线上连接有切换开关(13)。通过使用切换开关(13)切换连接线与地线的连接/非连接，能切换处理空间(1)中的等离子体产生区域。