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公开(公告)号：CN1706031A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200380101505.7
申请日：2003-11-06
Applicant: 株式会社日立国际电气
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/45536
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其包含形成了容纳基板1、供给多种反应气体、并对所述基板实施所需处理的空间的反应容器11；开口于反应容器11、用于排出反应容器11内气体的排气口16；以及向反应容器11至少供给多种反应气体的气体供给系统70A、70B。所述气体供给系统70A、70B包括供给清洁气体的清洁气体供给单元和供给后处理用气体的后处理用气体供给单元，所述清洁气体用于除去对基板1实施所需处理时附着在反应容器11内的附着物，所述后处理用气体能够在供给清洁气体并除去了附着物之后除去反应容器11内残留的清洁气体中所含元素，所述后处理用气体包含对基板实施所需处理时使用的全部反应气体。
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公开(公告)号：CN1762044A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200480007523.3
申请日：2004-03-04
Applicant: 株式会社日立国际电气
CPC classification number: H01L21/67253 , C23C16/50 , H01F19/08 , H01J37/32082 , H01J37/32174
Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置和器件的制造方法。该衬底处理装置能将远程等离子体和在整个处理室产生的等离子体的优点结合起来，实现良好的处理。该衬底处理装置具有：从外侧包围处理空间(1)地设置的、连接在地线上的导电性构件(10)和设置于上述导电性构件内侧的一对电极(4)。绝缘变压器(7)的初级线圈电连接在上述高频电源部(14)上，次级线圈电连接在上述电极(4)上。在连接次级线圈和电极(4)的连接线上连接有切换开关(13)。通过使用切换开关(13)切换连接线与地线的连接/非连接，能切换处理空间(1)中的等离子体产生区域。
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公开(公告)号：CN100477105C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480007523.3
申请日：2004-03-04
Applicant: 株式会社日立国际电气
CPC classification number: H01L21/67253 , C23C16/50 , H01F19/08 , H01J37/32082 , H01J37/32174
Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置和器件的制造方法。该衬底处理装置能将远程等离子体和在整个处理室产生的等离子体的优点结合起来，实现良好的处理。该衬底处理装置具有：从外侧包围处理空间(1)地设置的、连接在地线上的导电性构件(10)和设置于上述导电性构件内侧的一对电极(4)。绝缘变压器(7)的初级线圈电连接在上述高频电源部(14)上，次级线圈电连接在上述电极(4)上。在连接次级线圈和电极(4)的连接线上连接有切换开关(13)。通过使用切换开关(13)切换连接线与地线的连接/非连接，能切换处理空间(1)中的等离子体产生区域。
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公开(公告)号：CN100389482C
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200380101505.7
申请日：2003-11-06
Applicant: 株式会社日立国际电气
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/45536
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其包含形成了容纳基板1、供给多种反应气体、并对所述基板实施所需处理的空间的反应容器11；开口于反应容器11、用于排出反应容器11内气体的排气口16；以及向反应容器11至少供给多种反应气体的气体供给系统70A、70B。所述气体供给系统70A、70B包括供给清洁气体的清洁气体供给单元和供给后处理用气体的后处理用气体供给单元，所述清洁气体用于除去对基板1实施所需处理时附着在反应容器11内的附着物，所述后处理用气体能够在供给清洁气体并除去了附着物之后除去反应容器11内残留的清洁气体中所含元素，所述后处理用气体包含对基板实施所需处理时使用的全部反应气体。
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