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公开(公告)号：CN103539340B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201310278607.1
申请日：2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C03B23/20
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种烧制装置及其控制方法，该烧制装置（1）包括：激光源（3），其发射对玻璃浆料（11）照射的激光，该玻璃浆料（11）在元件侧基板（10a）的发光面（10a1）的周围连续地涂敷，描绘成为封闭图形的涂敷图案；移动装置（2a、2b），其对涂敷有玻璃浆料（11）的元件侧基板（10a）进行驱动；以及控制装置（5）。并且，控制装置（5）使元件侧基板（10a）移动，以使激光从涂敷图案上的照射开始点沿着涂敷图案向玻璃浆料（11）照射，当在遍及涂敷图案的整周照射激光之后照射开始点被激光再次照射时，使元件侧基板（10a）移动，使得激光照射离开涂敷图案（11a）的位置。
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公开(公告)号：CN103537404A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310277355.0
申请日：2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种浆料涂敷装置，具有：浆料储存部（30），其对向元件侧基板涂敷的玻璃浆料进行储存；喷嘴（31a），其将玻璃浆料向元件侧基板喷出；管路（312a），其使玻璃浆料从浆料储存部（30）流通至喷嘴（31a）；搅拌机构（33），其装入管路（312a）并对在该管路（312a）中流通的玻璃浆料进行搅拌，搅拌机构（33）以能够活动的方式装入管路（312a）。
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公开(公告)号：CN102671823B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201210070006.7
申请日：2012-03-16
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明公开了一种膏剂涂覆装置以及膏剂涂覆方法。本发明所要解决的技术问题是，能够以高精细的图案向大型玻璃基板高精度地涂覆密封材。本发明中，在膏剂涂覆头中，设置大容量的母膏剂收纳筒(23)和小容量的子膏剂收纳筒(24)，在该母膏剂收纳筒(23)收纳大量的膏剂。在子膏剂收纳筒(24)中，在向玻璃基板描绘膏剂图案时，将被收纳在这里的膏剂从喷嘴(22)排出。若子膏剂收纳筒(24)内的膏剂的收纳量变少，则将分隔阀(30)开放，使母膏剂收纳筒(23)和子膏剂收纳筒(24)经膏剂充填流路(27)连通，将母膏剂收纳筒(23)内的膏剂向子膏剂收纳筒(24)补充。
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公开(公告)号：CN103537404B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201310277355.0
申请日：2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种浆料涂敷装置，具有：浆料储存部（30），其对向元件侧基板涂敷的玻璃浆料进行储存；喷嘴（31a），其将玻璃浆料向元件侧基板喷出；管路（312a），其使玻璃浆料从浆料储存部（30）流通至喷嘴（31a）；搅拌机构（33），其装入管路（312a）并对在该管路（312a）中流通的玻璃浆料进行搅拌，搅拌机构（33）以能够活动的方式装入管路（312a）。
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公开(公告)号：CN103539340A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310278607.1
申请日：2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C03B23/20
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种烧制装置及其控制方法，该烧制装置（1）包括：激光源（3），其发射对玻璃浆料（11）照射的激光，该玻璃浆料（11）在元件侧基板（10a）的发光面（10a1）的周围连续地涂敷，描绘成为封闭图形的涂敷图案；移动装置（2a、2b），其对涂敷有玻璃浆料（11）的元件侧基板（10a）进行驱动；以及控制装置（5）。并且，控制装置（5）使元件侧基板（10a）移动，以使激光从涂敷图案上的照射开始点沿着涂敷图案向玻璃浆料（11）照射，当在遍及涂敷图案的整周照射激光之后照射开始点被激光再次照射时，使元件侧基板（10a）移动，使得激光照射离开涂敷图案（11a）的位置。
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