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公开(公告)号:CN103539340A
公开(公告)日:2014-01-29
申请号:CN201310278607.1
申请日:2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C03B23/20
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种烧制装置及其控制方法,该烧制装置(1)包括:激光源(3),其发射对玻璃浆料(11)照射的激光,该玻璃浆料(11)在元件侧基板(10a)的发光面(10a1)的周围连续地涂敷,描绘成为封闭图形的涂敷图案;移动装置(2a、2b),其对涂敷有玻璃浆料(11)的元件侧基板(10a)进行驱动;以及控制装置(5)。并且,控制装置(5)使元件侧基板(10a)移动,以使激光从涂敷图案上的照射开始点沿着涂敷图案向玻璃浆料(11)照射,当在遍及涂敷图案的整周照射激光之后照射开始点被激光再次照射时,使元件侧基板(10a)移动,使得激光照射离开涂敷图案(11a)的位置。
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公开(公告)号:CN103539340B
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201310278607.1
申请日:2013-07-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C03B23/20
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明提供一种烧制装置及其控制方法,该烧制装置(1)包括:激光源(3),其发射对玻璃浆料(11)照射的激光,该玻璃浆料(11)在元件侧基板(10a)的发光面(10a1)的周围连续地涂敷,描绘成为封闭图形的涂敷图案;移动装置(2a、2b),其对涂敷有玻璃浆料(11)的元件侧基板(10a)进行驱动;以及控制装置(5)。并且,控制装置(5)使元件侧基板(10a)移动,以使激光从涂敷图案上的照射开始点沿着涂敷图案向玻璃浆料(11)照射,当在遍及涂敷图案的整周照射激光之后照射开始点被激光再次照射时,使元件侧基板(10a)移动,使得激光照射离开涂敷图案(11a)的位置。
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