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公开(公告)号:CN1244731A
公开(公告)日:2000-02-16
申请号:CN99111786.7
申请日:1999-08-11
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L27/11 , H01L27/10 , H01L21/8244
CPC classification number: H01L27/105 , H01L27/1052
Abstract: 提高包括SRAM的半导体集成电路器件的存储器的工作裕度。为了将构成SRAM的存储单元的驱动MISFET Qd、转移MISFET Qt和用作负载电阻的MISFET QL的Vth有意地相对地设定为高于SRAM外围电路和如微处理器等逻辑电路的预定MISFET的Vth,与设定预定MISFET的Vth的杂质引入步骤分开进行杂质引入步骤,以设定驱动MISFETQd、转移MISFET Qt和用作负载电阻的MISFET QL的Vth。
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公开(公告)号:CN100459132C
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN99111786.7
申请日:1999-08-11
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L27/11 , H01L27/10 , H01L21/8244
Abstract: 提高包括SRAM的半导体集成电路器件的存储器的工作裕度。为了将构成SRAM的存储单元的驱动MISFET Qd、转移MISFET Qt和用作负载电阻的MISFET QL的Vth有意地相对地设定为高于SRAM外围电路和如微处理器等逻辑电路的预定MISFET的Vth,与设定预定MISFET的Vth的杂质引入步骤分开进行杂质引入步骤,以设定驱动MISFET Qd、转移MISFET Qt和用作负载电阻的MISFET QL的Vth。
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