公开(公告)号：CN107634015B

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201710565095.5

申请日：2017-07-12

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 辻川裕贵 ,  池田昌秀 ,  三浦淳靖 ,  藤田和宏 ,  土桥裕也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 一种基板处理装置，具有：筒状的挡板，其接住从旋转夹具向外侧飞散的液体；环状的杯，其用接液槽接住被挡板向下方引导的液体；挡板升降单元，其使挡板沿上下方向移动；清洗液供给单元，其将从冲洗液喷嘴喷出的纯水经由旋转夹具和挡板向接液槽供给；清洗液排出单元，其排出接液槽内的纯水；控制装置，其通过控制清洗液供给单元和清洗液排出单元，来在接液槽中积存纯水，通过控制挡板升降单元，来使筒状部的下端部浸渍于接液槽内的纯水中。

公开(公告)号：CN107799438A

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201710755442.0

申请日：2017-08-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 三浦淳靖 ,  池田昌秀 ,  辻川裕贵 ,  藤田和宏 ,  土桥裕也

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B1/02 ,  B05B15/55 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67017 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和喷嘴清洗方法，该基板处理装置的控制装置执行：液柱形成工序，在旋转夹具没有保持基板时，通过使下面喷嘴喷出清洗液，形成从下面喷嘴向上方延伸的液柱；以及，第一下垂部清洗工序，与液柱形成工序并行地执行，通过使上面喷嘴在上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第一位置和上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第二位置之间沿着水平方向往返，使上面喷嘴经过第一中间位置，所述第一中间位置指，在俯视时上面喷嘴的上喷出口与液柱重叠的位置。

公开(公告)号：CN107871692B

公开(公告)日：2021-12-21

申请号：CN201710858481.3

申请日：2017-09-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 土桥裕也 ,  三浦淳靖 ,  辻川裕贵 ,  藤田和宏 ,  池田昌秀

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供能防止或抑制清洗液进入到药液回收配管，并能降低清洗用药液的消耗量的回收配管清洗方法及基板处理装置。该方法为清洗回收配管的方法，在基板处理中使用过的药液经由处理杯引导至回收配管，回收配管将引导至该回收配管的药液向预先设定的药液回收配管引导，包括：配管清洗工序，通过对回收配管供应清洗液并且将被引导至回收配管的液体引导至与药液回收配管不同的排液配管，从而用清洗液清洗所述回收配管内；清洗用药液供应工序，配管清洗工序后，为了将回收配管内存在的清洗液替换为与药液同种的清洗用药液，将被引导至回收配管的液体引导至所述排液配管，并且对回收配管供应来自与回收配管相连的清洗用药液供应配管的清洗用药液。

公开(公告)号：CN107799438B

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201710755442.0

申请日：2017-08-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 三浦淳靖 ,  池田昌秀 ,  辻川裕贵 ,  藤田和宏 ,  土桥裕也

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和喷嘴清洗方法，该基板处理装置的控制装置执行：液柱形成工序，在旋转夹具没有保持基板时，通过使下面喷嘴喷出清洗液，形成从下面喷嘴向上方延伸的液柱；以及，第一下垂部清洗工序，与液柱形成工序并行地执行，通过使上面喷嘴在上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第一位置和上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第二位置之间沿着水平方向往返，使上面喷嘴经过第一中间位置，所述第一中间位置指，在俯视时上面喷嘴的上喷出口与液柱重叠的位置。

公开(公告)号：CN107634015A

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201710565095.5

申请日：2017-07-12

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 辻川裕贵 ,  池田昌秀 ,  三浦淳靖 ,  藤田和宏 ,  土桥裕也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/048 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67017

Abstract: 一种基板处理装置，具有：筒状的挡板，其接住从旋转夹具向外侧飞散的液体；环状的杯，其用接液槽接住被挡板向下方引导的液体；挡板升降单元，其使挡板沿上下方向移动；清洗液供给单元，其将从冲洗液喷嘴喷出的纯水经由旋转夹具和挡板向接液槽供给；清洗液排出单元，其排出接液槽内的纯水；控制装置，其通过控制清洗液供给单元和清洗液排出单元，来在接液槽中积存纯水，通过控制挡板升降单元，来使筒状部的下端部浸渍于接液槽内的纯水中。

公开(公告)号：CN107431008B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201680019255.X

申请日：2016-03-10

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 平井信行 ,  池田昌秀 ,  藤田和宏 ,  佐佐木光敏

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的基板处理装置中，由处理液供应部向喷出部(41)供应处理液，从喷出部(41)的喷出口(411)向基板喷出处理液。喷出部(41)中，液体接触面(45)由不含金属的材料形成，液体接触面(45)中的位于具有喷出口(411)的顶端部(42)的顶端液体接触面(451)具有导电性。顶端液体接触面(451)通过接地部(5)电接地。由此，能够更可靠地使处理液放电，并且防止基板的金属污染。

公开(公告)号：CN107871692A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710858481.3

申请日：2017-09-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 土桥裕也 ,  三浦淳靖 ,  辻川裕贵 ,  藤田和宏 ,  池田昌秀

IPC: H01L21/67

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  B08B9/027 ,  B08B9/0325 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明提供能防止或抑制清洗液进入到药液回收配管，并能降低清洗用药液的消耗量的回收配管清洗方法及基板处理装置。该方法为清洗回收配管的方法，在基板处理中使用过的药液经由处理杯引导至回收配管，回收配管将引导至该回收配管的药液向预先设定的药液回收配管引导，包括：配管清洗工序，通过对回收配管供应清洗液并且将被引导至回收配管的液体引导至与药液回收配管不同的排液配管，从而用清洗液清洗所述回收配管内；清洗用药液供应工序，配管清洗工序后，为了将回收配管内存在的清洗液替换为与药液同种的清洗用药液，将被引导至回收配管的液体引导至所述排液配管，并且对回收配管供应来自与回收配管相连的清洗用药液供应配管的清洗用药液。

公开(公告)号：CN107431008A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680019255.X

申请日：2016-03-10

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 平井信行 ,  池田昌秀 ,  藤田和宏 ,  佐佐木光敏

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的基板处理装置中，由处理液供应部向喷出部(41)供应处理液，从喷出部(41)的喷出口(411)向基板喷出处理液。喷出部(41)中，液体接触面(45)由不含金属的材料形成，液体接触面(45)中的位于具有喷出口(411)的顶端部(42)的顶端液体接触面(451)具有导电性。顶端液体接触面(451)通过接地部(5)电接地。由此，能够更可靠地使处理液放电，并且防止基板的金属污染。