-
-
公开(公告)号：CN111051289A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880056238.2
申请日：2018-09-03
Applicant: 株式会社德山
IPC: C07D233/64 , C07F3/06
Abstract: 本发明的目的在于提供简便地制造被保护的L-肌肽衍生物的方法等。本发明的被保护的L-肌肽衍生物的制造方法的特征在于，包括通过使式(1)所示的酸酐与式(2)所示的L-组氨酸衍生物反应从而制造式(3)所示的被保护的L-肌肽衍生物的工序。{式中，R1为规定的被保护的氨基，R2为规定的被保护的氨基或支链基团，R7和R8为氢原子或氨基的保护基，R9为氢原子或羧基的保护基。}
-
公开(公告)号：CN118234736A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202280074943.1
申请日：2022-11-14
Applicant: 株式会社德山
Abstract: 本发明要解决的问题之一是提供一种保护基团的去除方法、包括保护基团去除工序的肽的制造方法、以及保护基团的去除剂，该保护基团的去除方法抑制双重攻击体或二酮哌嗪的生成，易于捕获具有芴骨架的保护基团在脱保护后可能生成的副产物即具有富烯骨架的化合物，并且能够容易地分离与该副产物形成的捕获体。本发明的一个方面涉及的肽制造方法包括：在有机溶剂中，使N末端被具有芴骨架的保护基团保护的含氨基化合物与由下式(Z1)表示的捕获剂接触，具有来自所述保护基团的富烯骨架的副产物与所述捕获剂键合而获得捕获体的工序；以及从所述有机溶剂中分离出获得的所述捕获体的工序；#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN102762498B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180008473.0
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社德山
IPC: C01B33/18 , C01B13/32 , C01B33/146
CPC classification number: C01B33/146 , C01B13/36 , C01B13/363 , C01B33/141 , C01B33/148 , C01B33/154 , C01B33/18 , C01G23/04 , C01G25/02 , C01P2004/52 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C07F7/08 , C07F7/10 , C09C1/3081
Abstract: 本发明提供无机氧化物粒子的制造方法，其为至少经由将在碱性催化剂的存在下进行金属醇盐的水解反应及缩聚反应而得到的分散液进行絮凝后、将对其过滤而得到的粒子进行干燥的工序的无机氧化物粒子的制造方法，其特征在于，将上述分散液进行絮凝的工序以在上述分散液中添加了絮凝剂的状态进行，所述絮凝剂包含选自由二氧化碳、碳酸铵、碳酸氢铵及氨基甲酸铵组成的组中的至少一种的化合物。通过本发明的方法得到的无机氧化物粒子的纯度高、流动性优异。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102762498A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201180008473.0
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社德山
IPC: C01B33/18 , C01B13/32 , C01B33/146
CPC classification number: C01B33/146 , C01B13/36 , C01B13/363 , C01B33/141 , C01B33/148 , C01B33/154 , C01B33/18 , C01G23/04 , C01G25/02 , C01P2004/52 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C07F7/08 , C07F7/10 , C09C1/3081
Abstract: 本发明提供无机氧化物粒子的制造方法，其为至少经由将在碱性催化剂的存在下进行金属醇盐的水解反应及缩聚反应而得到的分散液进行絮凝后、将对其过滤而得到的粒子进行干燥的工序的无机氧化物粒子的制造方法，其特征在于，将上述分散液进行絮凝的工序以在上述述分散液中添加了絮凝剂的状态进行，所述絮凝剂包含选自由二氧化碳、碳酸铵、碳酸氢铵及氨基甲酸铵组成的组中的至少一种的化合物。通过本发明的方法得到的无机氧化物粒子的纯度高、流动性优异。
-
公开(公告)号：CN112236418B
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN201980036936.0
申请日：2019-06-11
IPC: C07D249/12
Abstract: 本发明提供以高纯度、高产率而工业化制造三唑烷二酮化合物的方法。实施制备包含下述式(1)表示的三唑烷二酮化合物的溶液、并使三唑烷二酮化合物析出的析出工序,此时，使溶液的pH为3.0～8.5,使溶液包含相对于1质量份的三唑烷二酮化合物而言为3～15容量份的溶剂。式(1)中，R1为具有取代或未取代的氨基的有机基团。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN112236418A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201980036936.0
申请日：2019-06-11
IPC: C07D249/12
Abstract: 本发明提供以高纯度、高产率而工业化制造三唑烷二酮化合物的方法。实施制备包含下述式(1)表示的三唑烷二酮化合物的溶液、并使三唑烷二酮化合物析出的析出工序,此时，使溶液的pH为3.0～8.5,使溶液包含相对于1质量份的三唑烷二酮化合物而言为3～15容量份的溶剂。式(1)中，R1为具有取代或未取代的氨基的有机基团。
-
-
公开(公告)号：CN102510853A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201080040934.8
申请日：2010-07-28
Applicant: 株式会社德山
IPC: C07C209/68 , C02F1/42 , C07C211/63
CPC classification number: C07C209/12 , C02F2001/425 , C02F2101/38 , C07C211/63
Abstract: 本发明提供TAA-OH的制造方法，其能够适用于以下方法：在使由Cl型离子交换树脂再生而得到的OH型阴离子交换树脂与由1～20质量％的四烷基氯化铵(TAA-Cl)水溶液形成的原料溶液接触来制造TAA-OH水溶液的方法中，使通过通常的再生得到的Cl残留量比较多的OH型阴离子交换树脂与原料溶液接触而得到由TAA-Cl浓度为0.01～1质量％的TAA-OH水溶液形成的1次反应液，接着使Cl残留量非常少的OH型阴离子交换树脂与上述1次反应液接触而得到TAA-Cl浓度低于0.01质量％的TAA-OH水溶液，从而即使不进行电渗析或电解，也能够从包含四烷基氢氧化铵(TAA-OH)的水系废液中安全且有效地回收杂质含量少的TAA-OH水溶液。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.019 seconds)
