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发明公开
肽制造方法、保护基团的去除方法、去除剂以及苄基化合物审中-实审

公开(公告)号：CN118234736A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202280074943.1

申请日：2022-11-14

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 葛西宗江 , 下田康嗣 , 佐藤诚 , 本山杏梨 , 松浦圭介

IPC: C07K1/06 , C07C43/23 , C07K1/02

Abstract: 本发明要解决的问题之一是提供一种保护基团的去除方法、包括保护基团去除工序的肽的制造方法、以及保护基团的去除剂，该保护基团的去除方法抑制双重攻击体或二酮哌嗪的生成，易于捕获具有芴骨架的保护基团在脱保护后可能生成的副产物即具有富烯骨架的化合物，并且能够容易地分离与该副产物形成的捕获体。本发明的一个方面涉及的肽制造方法包括：在有机溶剂中，使N末端被具有芴骨架的保护基团保护的含氨基化合物与由下式(Z1)表示的捕获剂接触，具有来自所述保护基团的富烯骨架的副产物与所述捕获剂键合而获得捕获体的工序；以及从所述有机溶剂中分离出获得的所述捕获体的工序；#imgabs0#

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