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公开(公告)号：CN120064163A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202411715022.6
申请日：2024-11-27
Applicant: 日本电子株式会社
Abstract: 提供一种能够迅速评估氧化LDL量的评估装置。包含：取得部，其取得每单位时间的吸光度的变化量的信息，所述信息是通过如下测定方法得到的：以对检体中的LDL起作用的界面活性剂将LDL可溶化，使过氧化物酶作用于在通过胆固醇氧化酶进行的氧化反应中产生的过氧化氢来将过氧化氢引入显色反应，对吸光度的时间变化进行测定；以及评估部，其基于变化量来评估所述检体中的氧化LDL量。
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公开(公告)号：CN115380440B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202180026931.7
申请日：2021-03-30
Applicant: 日本电子株式会社 , 国立研究开发法人理化学研究所
Abstract: 实现一种具备用于使用磁场校正线圈将磁场均匀化的新的调整机构的光晶格钟。光晶格钟具备：时钟跃迁空间(52)，其中配置封闭在光晶格中的原子集团(240)；以及3轴磁场校正线圈，其校正时钟跃迁空间的磁场。并且，作为取得单元的光接收器(246)在包含时钟跃迁空间并且比所述时钟跃迁空间宽广的校正用空间(242)中，促使封闭在光晶格中的原子集团(240)进行时钟跃迁，取得校正用空间(242)中的时钟跃迁的频率分布。另外，校正单元基于由取得单元计测出的频率分布来校正3轴磁场校正线圈的磁场。
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公开(公告)号：CN119230364A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410856640.6
申请日：2024-06-28
Applicant: 日本电子株式会社
Inventor： 小冢心寻
IPC: H01J37/305 , G06T11/20
Abstract: 提供一种能够容易地决定合适的加工条件的试样加工系统。试样加工系统包含：试样加工装置，其对试样照射离子束来加工所述试样；以及图像生成装置，其生成使用所述试样加工装置以所设定的加工条件加工了所述试样的情况下的预测图像，所述预测图像包含所述离子束的照射方向的分布的信息。
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公开(公告)号：CN112213507B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202010640125.6
申请日：2020-07-06
Applicant: 日本电子株式会社
Inventor： 朝仓诚
IPC: G01N35/04
Abstract: 提供能够减少搅拌棒上的污垢粘附的自动分析装置。自动分析装置(100)包含：搅拌部(140)，其具备搅拌棒(142)；清洗部(146)，其进行搅拌棒(142)的清洗；以及控制部，其控制搅拌部(140)和清洗部(146)，控制部进行：第1处理，当在第1周期之后的第2周期中使搅拌部(140)进行包含检体的液体(141)的搅拌的情况下，将在第2周期中对搅拌棒(142)进行清洗的范围设为清洗范围R2；以及第2处理，当在第2周期中不使搅拌部(140)进行液体的搅拌的情况下，将在第1周期和第2周期之中的至少一个周期中对搅拌棒(142)进行清洗的范围设为比清洗范围R2大的清洗范围R4。
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公开(公告)号：CN118366834A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410074927.3
申请日：2024-01-18
Applicant: 日本电子株式会社
Abstract: 提供一种能够调整试样的倾斜度的试样保持器。试样保持器(100)包含：保持器主体(10)；试样台(20)，其固定试样(S)；以及第1柱塞(30)和第2柱塞(40)，其作为将试样台(20)可滑动地按压到保持器主体(10)的按压构件，在试样台(20)设置有贯通孔(24)，试样台(20)通过使插入于贯通孔(24)的调整夹具(2)倾斜，来相对于保持器主体(10)倾斜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111474372B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202010073411.9
申请日：2020-01-22
Applicant: 日本电子株式会社
IPC: G01N35/00
Abstract: 本发明提供一种在分注探头的浸渍是过量浸渍的情况下能够进行与运用相对应的动作自动分析装置。测量部(1a)具有：容纳单元，其具有容纳有液体的多个容器；分注单元，其具有用于分注液体的分注探头；以及计量部，其对通过分注单元分注的液体进行计量。过量浸渍判断部(44c)判断分注探头的浸渍是否为超过预定的范围的过量浸渍。输入部(42)能够从多个模式中选择并设定在过量浸渍判断部判断为过量浸渍之后的测量部(1a)的动作。测量控制部(44b)根据由输入部(42)设定的模式来控制测量部(1a)。
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公开(公告)号：CN117136476A
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202280026652.5
申请日：2022-03-09
Applicant: 日本电子株式会社 , 国立研究开发法人理化学研究所
IPC: H01S1/06
Abstract: 高温槽(116)包含：光学窗，其设置在高温槽(116)的一端并使激光(132)通过；以及直角圆锥镜(102)，其设置在高温槽(116)的另一端且在顶点具有开口部(106)，将从光学窗入射的激光(132)在开口部(106)以外的部分朝向一端反射。磁场产生装置(112)在由直角圆锥镜(102)反射后的激光交叉的区域产生磁场。磁场梯度缓和模块(130)在开口部(106)产生使磁场产生装置(112)所产生的磁场的梯度缓和的缓和磁场。
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公开(公告)号：CN110618284B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN201910531209.3
申请日：2019-06-19
Applicant: 日本电子株式会社
Inventor： 小川亨
IPC: G01N35/10
Abstract: 本发明提供一种能够在不浪费稀释检查体的情况下对使用相同稀释检查体的多个检查项目可靠地实施再检的自动分析装置。自动分析装置包括：稀释检查体保持部；反应容器保持部；分注装置；测量部；存储部；以及分注控制部，其控制分注装置的分注，在对针对相同稀释检查体的多个检查项目中的、根据最初检查的测量结果而产生了再检查的必要性的检查项目进行再检查之际，分注控制部通过对存储于存储部的与稀释检查体有关的信息进行检索，从而自贮存有相同稀释检查体的多个稀释容器中抽取要采集用于进行再检查的稀释检查体的稀释容器作为再检查用的稀释容器，分注控制部使分注装置实施自抽取出的稀释容器采集再检查用的稀释检查体的再检分注处理。
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公开(公告)号：CN111426853B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN201911420277.9
申请日：2019-12-31
Applicant: 日本电子株式会社
Inventor： 八板强志
IPC: G01N35/10 , G01F23/263
Abstract: 本发明提供一种自动分析装置和记录介质。能够以更高的精度检测出由于在液体表面产生的气泡引起的液面探测的误探测。本发明的一个方式为，在自动分析装置(10)中，特征量提取部(71)从在分注探针(1a)开始下降起直到经过固定时间为止的期间由振荡电路(4)输出的交流信号的振荡频率的时间序列数据中提取特征量，并将所提取出的特征量作为数据序列输出。而且，气泡接触判定处理部(72A)计算特征量的数据序列的波形与异常波形模型的互相关，基于互相关的计算结果来判定是否正常地进行了液面的探测。并且，第二控制部(8)基于该判定结果，来判定出分注探针(1a)的顶端部(1e)与容器(2)内的液面的分离及分离的因素。
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公开(公告)号：CN112309809B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202010709688.6
申请日：2020-07-22
Applicant: 日本电子株式会社
Abstract: 提供能够降低磁场透镜的磁滞影响的带电粒子束装置的焦点调整方法。一种包含用于调整焦点的磁场透镜、以及像散校正器的带电粒子束装置的焦点调整方法，包含以下工序：使磁场透镜的励磁电流在焦点搜索范围内变化来取得焦点相互不同的多个第1图像，基于多个第1图像来决定励磁电流的基准值；在使磁场透镜的励磁电流在焦点搜索范围内变化的前后，将磁场透镜的励磁电流设为焦点搜索范围外来进行磁场透镜的磁滞消除；以及一边以基准值为基准使磁场透镜的励磁电流变化，一边在各励磁电流处使像散校正器的瑕疵校正值变化来取得焦点及像散相互不同的多个第2图像，基于多个第2图像来求励磁电流的最佳值和瑕疵校正值的最佳值。
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