多层膜反射镜、多层膜反射镜的制造方法及曝光系统

    公开(公告)号:CN100449690C

    公开(公告)日:2009-01-07

    申请号:CN200480030249.1

    申请日:2004-10-15

    Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3),在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此,可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率,和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性,与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比,能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性,本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。

    多层膜反射镜、多层膜反射镜的制造方法及曝光系统

    公开(公告)号:CN1868033A

    公开(公告)日:2006-11-22

    申请号:CN200480030249.1

    申请日:2004-10-15

    Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3),在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此,可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率,和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性,与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比,能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性,本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。

    远紫外光发生器、采用该发生器的曝光设备和半导体制造方法

    公开(公告)号:CN1494819A

    公开(公告)日:2004-05-05

    申请号:CN02805547.0

    申请日:2002-02-26

    Inventor: 神高典明

    CPC classification number: H05G2/003 B82Y10/00 G03F7/70033 G03F7/70858

    Abstract: 一种远紫外光发生器(1),能够抑制电极部件熔融和蒸发产生的分散颗粒量,还提供一种利用该发生器的曝光设备和半导体制造方法。该远紫外光发生器(1)设置在X射线曝光设备的最上游侧,在其真空腔(4)同轴设置中央放电电极(2)和周边放电电极(4)。中央放电电极(2)由钨形成,其中空部分(2c)内表面涂布有厚度大约为0.2mm的金刚石薄膜(10)。在中空部分(2c)中设置其尖端连接至冷却水供应设备(12)的冷却水管(11)。冷却水供应设备(12)中的冷却水始终被冷却至大约20摄氏度,并通过冷却水管(11)提供给中央放电电极(2)的中空部分(2c)。由此,中央放电电极(2)的热量迅速扩散,可以抑制中央放电电极(2)温度升高,由此减少所产生的分散颗粒量。

    用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统

    公开(公告)号:CN1350185A

    公开(公告)日:2002-05-22

    申请号:CN01135499.2

    申请日:2001-10-22

    Abstract: 用于“远紫外线”(“软X射线”或”EUV”)光学系统的多层镜。每个多层镜包括多个交替叠放的第一种材料和第二种材料的层。第一种材料的折射率近似于真空,第二种材料的折射率完全不同于第一种材料的,以提供反射镜对EUV辐射的反射。从表面反射的EUV光的波前轮廓通过去除(”加工”)这个叠层的选定区域的至少一个表面层而得到校正。加工区域具有平滑的梯度边缘,而不是不连贯的边缘。该叠层可包括第一和第二层组,这使得加工的单元可以非常小,这样增加了精度,从而可进行波前光行差的校正。还公开了用于测定反射镜的反射波前轮廓的各种波长技术。镜表面可包括具有高透明性耐蚀材料构成的覆盖层。

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