公开(公告)号：CN1868033A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200480030249.1

申请日：2004-10-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 神高典明 ,  村上胜彦 ,  小宫毅治 ,  白石雅之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28

Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3)，在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此，可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率，和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性，与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比，能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性，本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。

公开(公告)号：CN100485864C

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200580020010.0

申请日：2005-06-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 村上胜彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明的目的是提供一种EUV光源、EUV曝光装置及半导体元件的制造方法。在被加热的容器(4)内，收纳有使Sn固体微粒在树脂中分散的液体。由加压泵进行加压的树脂被导向喷嘴(1)，并从真空室(7)内所设置的喷嘴(1)的顶端喷出液体状的树脂。从喷嘴(1)所喷出的液体状的液体由表面张力而形成球形的形状，并在真空中被冷却而固化，形成固体状的标靶(2)。在真空室(7)内设置有激光光导入用的激光导入窗(10)，且从真空室(7)的外面所配置的激光光源(8)产生的激光光，由透镜(9)被聚光并导向真空室(7)内，将标靶等离子化而产生EUV光。

公开(公告)号：CN1350185A

公开(公告)日：2002-05-22

申请号：CN01135499.2

申请日：2001-10-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白石雅之 ,  村上胜彦 ,  近藤洋行 ,  神高典明

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/706 ,  G02B5/08 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70316

Abstract: 用于“远紫外线”(“软X射线”或”EUV”)光学系统的多层镜。每个多层镜包括多个交替叠放的第一种材料和第二种材料的层。第一种材料的折射率近似于真空,第二种材料的折射率完全不同于第一种材料的,以提供反射镜对EUV辐射的反射。从表面反射的EUV光的波前轮廓通过去除(”加工”)这个叠层的选定区域的至少一个表面层而得到校正。加工区域具有平滑的梯度边缘,而不是不连贯的边缘。该叠层可包括第一和第二层组,这使得加工的单元可以非常小,这样增加了精度,从而可进行波前光行差的校正。还公开了用于测定反射镜的反射波前轮廓的各种波长技术。镜表面可包括具有高透明性耐蚀材料构成的覆盖层。

公开(公告)号：CN100449690C

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：CN200480030249.1

申请日：2004-10-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 神高典明 ,  村上胜彦 ,  小宫毅治 ,  白石雅之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28

Abstract: 一种旨在降低反射率对入射角的依从性的多层膜反射镜。基底(1)由被抛光至表面(图中的顶表面)粗糙度为0.2nm RMS的低热膨胀玻璃制成。在基底(1)的表面上形成具有大的峰值反射率半宽度的Ru/Si多层膜(3)，在该Ru/Si多层膜(3)上形成具有高峰值反射率的Mo/Si多层膜(5)。因此，可以获得比只有Ru/Si时更高的反射率，和比只有Mo/Si多层膜(5)时具有更宽的半宽度的反射率峰。由于Ru提供比Mo更多的EUV射线吸收性，与在Mo/Si多层膜(5)上形成Ru/Si多层膜(3)的结构相比，能获得更高的反射率。因为具有宽的光谱反射率半宽度的多层膜具有小的反射率对入射角依从性，本发明在投影光学系统中可以保持高的成像性能。

公开(公告)号：CN101002305A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580027402.X

申请日：2005-12-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 村上胜彦 ,  井上英也

IPC: H01L21/027 ,  G21K5/08 ,  G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/001

Abstract: 将靶材(1)的方向调整为圆板的方向后，由具有缝隙状开口的喷嘴(2)喷出，并搭载于气体流搬送，本例使用氦气流。或用压电元件振动喷嘴(2)喷出靶材(1)也可。因喷嘴(2)外部保持高真空状态，故由喷嘴(2)放出的靶材(1)，保持原来的姿势到达激光的照射位置。在供给靶材(1)的同时，由Nd:YAG激光源(4)发出脉冲激光(5)，并经透镜(3)聚光后照射到靶材(1)。该靶材(1)的直径与激光的光点直径同为1mm，其厚度为1000nm以下，所以该靶材几乎全部等离子化，能够抑制飞尘的发生并提高变换效率。

公开(公告)号：CN1969372A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200580020010.0

申请日：2005-06-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 村上胜彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明的目的是提供一种EUV光源、EUV曝光装置及半导体元件的制造方法。在被加热的容器(4)内，收纳有使Sn固体微粒在树脂中分散的液体。由加压泵进行加压的树脂被导向喷嘴(1)，并从真空室(7)内所设置的喷嘴(1)的顶端喷出液体状的树脂。从喷嘴(1)所喷出的液体状的液体由表面张力而形成球形的形状，并在真空中被冷却而固化，形成固体状的标靶(2)。在真空室(7)内设置有激光光导入用的激光导入窗(10)，且从真空室(7)的外面所配置的激光光源(8)产生的激光光，由透镜(9)被聚光并导向真空室(7)内，将标靶等离子化而产生EUV光。