加工装置及移动体的制造方法

    公开(公告)号:CN111263680B

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN201780096206.0

    申请日:2017-10-25

    Abstract: 加工装置(1)包括:光照射装置(11),对物体(S、SF)的表面照射加工光(EL);第一位置变更装置(12、15、1122),变更通过光照射装置而形成于物体的表面的照射区域(EA)及物体的至少一者的位置;及控制装置(18),以如下方式控制第一位置变更装置,即,一面变更照射区域及物体的至少一者的位置,一面对物体的表面照射加工光而变更物体的一部分的厚度,由此形成用于减小物体的表面的相对于流体的摩擦阻力的构造。

    用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统

    公开(公告)号:CN1350185A

    公开(公告)日:2002-05-22

    申请号:CN01135499.2

    申请日:2001-10-22

    Abstract: 用于“远紫外线”(“软X射线”或”EUV”)光学系统的多层镜。每个多层镜包括多个交替叠放的第一种材料和第二种材料的层。第一种材料的折射率近似于真空,第二种材料的折射率完全不同于第一种材料的,以提供反射镜对EUV辐射的反射。从表面反射的EUV光的波前轮廓通过去除(”加工”)这个叠层的选定区域的至少一个表面层而得到校正。加工区域具有平滑的梯度边缘,而不是不连贯的边缘。该叠层可包括第一和第二层组,这使得加工的单元可以非常小,这样增加了精度,从而可进行波前光行差的校正。还公开了用于测定反射镜的反射波前轮廓的各种波长技术。镜表面可包括具有高透明性耐蚀材料构成的覆盖层。

    加工装置及移动体的制造方法

    公开(公告)号:CN111246963B

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN201880069008.X

    申请日:2018-10-25

    Abstract: 加工装置(1)包括:光照射装置(11),对物体(S、SF)的表面照射加工光(EL);及间隔壁构件(132),包围包含使加工光通过的光照射装置的光学系统(112)中位于最靠物体侧的光学构件(1123)与物体的表面之间的光路的空间。

    EUV光源、EVU曝光装置、及半导体元件的制造方法

    公开(公告)号:CN1973357A

    公开(公告)日:2007-05-30

    申请号:CN200580020398.4

    申请日:2005-06-22

    Inventor: 白石雅之

    CPC classification number: H05G2/003 H05G2/005

    Abstract: 在已加热的贮槽(4)内,收纳有具有Sn的原子数%小于等于 15%的组成的Sn-Ga系合金。将已用压力泵加压的Sn合金导入喷嘴(1),并从设置在真空室7内的喷嘴(1)的前端喷出液态Sn合金。从喷嘴(1)所喷出的液态Sn合金因表面张力而形成为球形,而作为靶(2)。由配置在真空室(7)的外部的Nd:YAG激光源(8)产生的激光,在透镜(9)聚光并导入真空室(7)内。将被照射了激光的靶(2)等离子体化,并辐射包含EUV光的光。

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