控制参数计算装置、控制参数计算方法和存储介质

    公开(公告)号:CN119960504A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202411572156.7

    申请日:2024-11-06

    Abstract: 一种控制参数计算装置,计算控制流体的流体控制装置的控制参数,包括:相关数据存储部,存储相关数据,相关数据表示作为基准的所述流体控制装置的基准控制参数与使用所述基准控制参数输出的基准响应信号的相关;对象响应信号取得部,取得使用与作为基准的所述流体控制装置不同的所述流体控制装置的对象控制参数输出的对象响应信号;相关控制参数计算部,取得所述相关数据和所述对象响应信号,并且通过使用所述相关数据来计算作为基准的所述流体控制装置中的与所述对象响应信号对应的相关控制参数;以及对象控制参数调整量计算部,基于所述相关控制参数和所述基准控制参数,计算所述对象控制参数的调整量。

    流体控制装置和压力控制装置

    公开(公告)号:CN102644787A

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201210033527.5

    申请日:2012-02-15

    CPC classification number: G05D7/0635

    Abstract: 本发明提供流体控制装置和压力控制装置,即使阀控制器采用了数字控制,也能实现与以往的使用模拟控制的情况相近的响应性。流体控制装置(100)包括:流体控制阀(2),设置在流体流过的流道(5)上;流体测量部(1)、(3),测量与所述流体相关的物理量;以及阀控制器(4),根据由所述流体测量部(1)测量的物理量的测量值与预先设定的设定值的偏差,通过数字控制控制所述流体控制阀(2)的开度,所述阀控制器(4)包括:操作量计算部(41),对输入的值进行规定的计算并输出与所述流体控制阀(2)的开度的操作量相关的值;以及相位补偿部(42),输出通过速度型数字计算对输入的值补偿相位延迟后得到的值。

    残留气体分析仪
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101405599B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200780009949.6

    申请日:2007-03-09

    CPC classification number: G01N27/62 H01J49/00

    Abstract: 一种残留气体分析仪,对于半导体装置等狭窄场所也能够合适配置进行计量测定,且在无外部PC机的情况下能够进行从计量测定直至显示计量测定结果。其包括由检测残留气体的传感部(11)构成的传感器单元(1)以及装置本体(2),该装置本体包括受操作以控制所述传感部(11)的操作部、根据所述传感部(11)的输出而对残留气体进行分析处理的残留气体分析处理部、以及对残留气体分析处理部的分析处理结果进行图像显示的分析处理结果图像显示部,获取将所述传感器单元(1)安装后的安装状态(P1)或将其脱离后的脱离状态(P2)。

    残留气体分析仪
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101405599A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:CN200780009949.6

    申请日:2007-03-09

    CPC classification number: G01N27/62 H01J49/00

    Abstract: 一种残留气体分析仪,对于半导体装置等狭窄场所也能够合适配置进行计量测定,且在无外部PC机的情况下能够进行从计量测定直至显示计量测定结果。其包括由检测残留气体的传感部(11)构成的传感器单元(1)以及装置本体(2),该装置本体包括受操作以控制所述传感部(11)的操作部、根据所述传感部(11)的输出而对残留气体进行分析处理的残留气体分析处理部、以及对残留气体分析处理部的分析处理结果进行图像显示的分析处理结果图像显示部,获取将所述传感器单元(1)安装后的安装状态(P1)或将其脱离后的脱离状态(P2)。

Patent Agency Ranking