公开(公告)号：CN107492574B

公开(公告)日：2022-10-14

申请号：CN201710430180.0

申请日：2017-06-09

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 后藤尚人 ,  保坂泰靖 ,  矢口瑞穂

IPC: H01L29/786 ,  H01L27/12

Abstract: 本发明的一个方式的目的是提供一种占有面积小的晶体管。另外，本发明的一个方式的目的是提供一种可靠性良好的晶体管。在具有凸部的绝缘层上设置晶体管。在该凸部上至少设置半导体层的沟道形成区。由此，可以减小该晶体管的占有面积。由于该晶体管具有弯曲的结构，因此从外部入射的光不容易到达半导体层的沟道形成区。由此可以减轻外部光所引起的该晶体管的劣化，而可以提高该晶体管的可靠性。该凸部可以通过利用形成在该绝缘层上的层的内部应力来实现。或者，可以通过在该绝缘层下形成用来使该绝缘层具有凸部的结构体来实现。

公开(公告)号：CN107492574A

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201710430180.0

申请日：2017-06-09

Applicant: 株式会社半导体能源研究所

Inventor： 后藤尚人 ,  保坂泰靖 ,  矢口瑞穂

IPC: H01L29/786 ,  H01L27/12

CPC classification number: H01L29/7869 ,  H01L27/1225 ,  H01L29/42384 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/78603 ,  H01L29/78648 ,  H01L29/78696

Abstract: 本发明的一个方式的目的是提供一种占有面积小的晶体管。另外，本发明的一个方式的目的是提供一种可靠性良好的晶体管。在具有凸部的绝缘层上设置晶体管。在该凸部上至少设置半导体层的沟道形成区。由此，可以减小该晶体管的占有面积。由于该晶体管具有弯曲的结构，因此从外部入射的光不容易到达半导体层的沟道形成区。由此可以减轻外部光所引起的该晶体管的劣化，而可以提高该晶体管的可靠性。该凸部可以通过利用形成在该绝缘层上的层的内部应力来实现。或者，可以通过在该绝缘层下形成用来使该绝缘层具有凸部的结构体来实现。