公开(公告)号：CN103906740A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201280053193.6

申请日：2012-11-01

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞植 ,  李载禹 ,  金宰贤

IPC: C07D311/86 ,  C07D495/10 ,  C08G61/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/094 ,  C07D311/86 ,  C07D491/107 ,  C07D495/10 ,  C08G8/20 ,  C08G61/122 ,  C08G2261/344 ,  C09D161/12 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  C07D311/96 ,  C07D335/04 ,  C07D493/10 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明公开了一种用于半导体加工光刻过程的酚类单体，一种含有所述酚类单体的用于制备抗蚀剂下层的聚合物，以及一种包含所述聚合物的抗蚀剂下层组合物。所述酚类单体由说明书中结构式1表示，在结构式1中，R1、R2、R3和R4分别是氢原子，或者带有或不带有杂原子的具有1～20个碳原子的直链状、支链状、单环或多环的饱和或不饱和碳氢基团；A是具有4～20个碳原子的单环或多环的芳香烃基团；X是氧原子(O)或硫原子(S)；Y是单键、亚甲基(CH2-)、氧原子(O)、硫原子(S)、氨基(-NH-)或两个单独的氢原子，其中，A、R1、R2、R3和R4都能被带有或不带有杂原子的具有1～20个碳原子的直链状、支链状、单环或多环的饱和或不饱和碳氢基团取代；以及，要么R1和R2，要么R3和R4彼此独立连接，形成环状。

公开(公告)号：CN103906740B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201280053193.6

申请日：2012-11-01

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞植 ,  李载禹 ,  金宰贤

IPC: C07D311/86 ,  C07D495/10 ,  C08G61/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/094 ,  C07D311/86 ,  C07D491/107 ,  C07D495/10 ,  C08G8/20 ,  C08G61/122 ,  C08G2261/344 ,  C09D161/12 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明公开了一种用于半导体加工光刻过程的酚类单体，一种含有所述酚类单体的用于制备抗蚀剂下层的聚合物，以及一种包含所述聚合物的抗蚀剂下层组合物。所述酚类单体由说明书中结构式1表示，在结构式1中，R1、R2、R3和R4分别是氢原子，或者带有或不带有杂原子的具有1～20个碳原子的直链状、支链状、单环或多环的饱和或不饱和碳氢基团；A是具有4～20个碳原子的单环或多环的芳香烃基团；X是氧原子(O)或硫原子(S)；Y是单键、亚甲基(CH2?)、氧原子(O)、硫原子(S)、氨基(?NH?)或两个单独的氢原子，其中，A、R1、R2、R3和R4都能被带有或不带有杂原子的具有1～20个碳原子的直链状、支链状、单环或多环的饱和或不饱和碳氢基团取代；以及，要么R1和R2，要么R3和R4彼此独立连接，形成环状。

公开(公告)号：CN118488941A

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202180104893.2

申请日：2021-12-22

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金宰贤 ,  许明铉 ,  金贞植 ,  俞敏子 ,  李衡根

IPC: C07C311/06 ,  C07C311/14 ,  C07C311/17 ,  C07C321/28 ,  C07C323/22 ,  C07C323/66 ,  C07C25/18 ,  C07D319/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种盐化合物、含该盐化合物的酸扩散抑制剂以及光致抗蚀剂组成物，该盐化合物包含具有由化学式1表示的特定结构阴离子和由化学式2表示的阳离子。

公开(公告)号：CN118401893A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202180104941.8

申请日：2021-12-22

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金宰贤 ,  许明铉 ,  金贞植 ,  俞敏子 ,  李衡根 ,  池灿爀 ,  张景勋 ,  河政敏

IPC: G03F7/004 ,  C07C323/20 ,  C07C323/21

Abstract: 本发明涉及一种含具有特定极性官能基如磺酸盐基的阴离子的新颖结构的光酸产生剂、含所述光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物及光致抗蚀剂图案形成方法。

公开(公告)号：CN103781816A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201280043341.6

申请日：2012-09-05

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞植 ,  金宰贤 ,  李载禹

IPC: C08G61/00 ,  C08G65/38 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004

CPC classification number: H01L21/0271 ,  C08G8/08 ,  C08G8/12 ,  C08G8/28 ,  C08G61/02 ,  C08G65/4006 ,  C08G65/48 ,  C08G65/485 ,  C08G73/0655 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/76 ,  C09D161/14 ,  C09D179/04 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明公开一种即使没有用于固化高分子的添加剂，也在加热时引起自交联反应的酚系自交联高分子及包含其的抗蚀剂下层膜组合物。所述酚系自交联高分子选自由本说明书的以下述化学式1表示的高分子、以下述化学式2表示的高分子和以下述化学式3表示的高分子组成的组。