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公开(公告)号：CN118401893A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202180104941.8
申请日：2021-12-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
Inventor： 金宰贤 , 许明铉 , 金贞植 , 俞敏子 , 李衡根 , 池灿爀 , 张景勋 , 河政敏
IPC: G03F7/004 , C07C323/20 , C07C323/21
Abstract: 本发明涉及一种含具有特定极性官能基如磺酸盐基的阴离子的新颖结构的光酸产生剂、含所述光酸产生剂的光致抗蚀剂组合物及光致抗蚀剂图案形成方法。
