公开(公告)号：CN1667514A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN200510053816.1

申请日：2005-03-11

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李期范 ,  李载求 ,  朴美仙 ,  金钟民 ,  李敏键

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/35 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/359 ,  G01N1/2035 ,  G01N21/05 ,  G03F7/00 ,  H01L21/67086 ,  Y10T436/12

Abstract: 本发明公开了监控光刻过程所用多组分组合物的系统和方法，该光刻过程用于制造半导体器件、液晶显示设备等等，该组合物如光刻胶、剥离剂、显影剂、蚀刻剂、稀释剂、漂洗剂/清洁剂和蚀刻边胶清除剂。所述系统包括：组合物循环装置，其用于从贮存光刻过程所用组合物的储罐中抽取所述组合物，并将所抽取的组合物通过流动池循环回所述储罐；组合物分析装置，其用于测量流经所述流动池的组合物的吸光度，并从所测得的吸光度计算该组合物的至少一种组分的浓度；组分供应装置，其用于在某些组分的浓度低于预定水平时向所述储罐提供所缺乏的组分；及控制装置，其用于根据所述吸光度对所述组分供应装置进行控制，以调节所述组合物的每种组分的浓度。

公开(公告)号：CN100510969C

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200510053816.1

申请日：2005-03-11

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 李期范 ,  李载求 ,  朴美仙 ,  金钟民 ,  李敏键

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/35 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/359 ,  G01N1/2035 ,  G01N21/05 ,  G03F7/00 ,  H01L21/67086 ,  Y10T436/12

Abstract: 本发明公开了监控光刻过程所用多组分组合物的系统和方法，该光刻过程用于制造半导体器件、液晶显示设备等等，该组合物如光刻胶、剥离剂、显影剂、蚀刻剂、稀释剂、漂洗剂/清洁剂和蚀刻边胶清除剂。所述系统包括：组合物循环装置，其用于从贮存光刻过程所用组合物的储罐中抽取所述组合物，并将所抽取的组合物通过流动池循环回所述储罐；组合物分析装置，其用于测量流经所述流动池的组合物的吸光度，并从所测得的吸光度计算该组合物的至少一种组分的浓度；组分供应装置，其用于在某些组分的浓度低于预定水平时向所述储罐提供所缺乏的组分；及控制装置，其用于根据所述吸光度对所述组分供应装置进行控制，以调节所述组合物的每种组分的浓度。