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公开(公告)号:CN1957400A
公开(公告)日:2007-05-02
申请号:CN200580009137.2
申请日:2005-03-24
CPC classification number: G11B5/66 , B82Y25/00 , G11B5/667 , H01F10/08 , H01F10/3222
Abstract: 本发明的磁记录介质具有基底、垂直磁记录层、以及在所述基底与所述垂直磁记录层之间形成的软磁层,所述软磁层具有小于100nm的厚度、在表面方向上的磁各向异性,以及不小于79T·A/m(10kG·Oe)的饱和磁通密度Bs和矫顽力Hc的乘积Bs·Hc。通过使软磁层的厚度在上述范围内,可稳定在表面方向上的磁各向异性。通过使Bs·Hc在上述范围内,可充分增加静磁能量。因此,可抑制在软磁层中磁壁的产生,可抑制由软磁层产生的噪声,并实现高密度记录。
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公开(公告)号:CN1856823A
公开(公告)日:2006-11-01
申请号:CN200480027438.3
申请日:2004-09-22
Abstract: 通过使垂直磁记录层的结构更加精细,而使得可以进行高密度记录。垂直磁记录介质10包括在非磁性基底1上层叠的至少非磁性下层2、垂直磁性层3以及保护层,其中垂直磁性层包括铁磁性晶粒和非磁性晶粒间界区域,其中晶粒间界区域包括至少两种氧化物。
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公开(公告)号:CN1487507A
公开(公告)日:2004-04-07
申请号:CN03154627.7
申请日:2003-07-11
Abstract: 一种磁记录介质包括非磁性基片,在这个基片上有至少一层软磁性下膜、一层控制直接在其上的膜定向的定向控制膜、一层具有基本上垂直于基片的易磁化轴的垂直磁记录膜,和一层保护膜,其中定向控制膜具有形成C11b结构的材料组成。该磁记录介质采用一种方法生产,该生产方法包括按顺序实施以下步骤:至少一个在非磁性基片上形成软磁性下膜的步骤、形成控制直接在其上的膜定向的定向控制膜的步骤、形成具有基本上与基片垂直的易磁化轴的垂直磁记录膜的步骤,和形成保护膜的步骤。一种磁记录和再现设备包括磁记录介质和在磁记录介质上记录和再现信息的磁头,其中磁头是磁单极头。
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公开(公告)号:CN100414610C
公开(公告)日:2008-08-27
申请号:CN200580009137.2
申请日:2005-03-24
CPC classification number: G11B5/66 , B82Y25/00 , G11B5/667 , H01F10/08 , H01F10/3222
Abstract: 本发明的磁记录介质具有基底、垂直磁记录层、以及在所述基底与所述垂直磁记录层之间形成的软磁层,所述软磁层具有小于100nm的厚度、在表面方向上的磁各向异性,以及不小于79T·A/m(10kG·Oe)的饱和磁通密度Bs和矫顽力Hc的乘积Bs·Hc。通过使软磁层的厚度在上述范围内,可稳定在表面方向上的磁各向异性。通过使Bs·Hc在上述范围内,可充分增加静磁能量。因此,可抑制在软磁层中磁壁的产生,可抑制由软磁层产生的噪声,并实现高密度记录。
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公开(公告)号:CN1898726A
公开(公告)日:2007-01-17
申请号:CN200480038388.9
申请日:2004-12-24
CPC classification number: G11B5/7325 , C23C14/0688 , C23C14/185 , G11B5/65 , G11B5/656 , G11B5/712 , G11B5/85
Abstract: 一种磁记录介质62,其中包括:衬底11;在衬底11上形成的底涂层13和14;以及磁记录层15,其包括磁性晶粒和包围所述晶粒的晶粒间界区域。晶粒间界区域包括钛氧化物,且磁记录层15中的钛氧化物的物质含量的比率为5mol%至15mol%之间,所述钛氧化物包括至少TiO和/或Ti2O3。
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公开(公告)号:CN100409319C
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN200480028831.4
申请日:2004-10-05
CPC classification number: G11B5/65 , G11B5/656 , G11B5/7325
Abstract: 一种垂直磁性记录介质,包括:衬底;在所述衬底上方形成的至少一个底层;以及在所述至少一个底层上方形成的垂直磁性记录层,该垂直磁性记录层的容易磁化轴垂直于所述衬底,该垂直磁性记录层包括磁性晶体微粒和包围该磁性晶体微粒的颗粒边界,其中所述颗粒边界包含具有硅氧化物和从由Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr和Ba组成的组中选出的至少一个元素,以及垂直磁性记录层中的Si、Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr和Ba的物质的总量的比例不小于1mol%,且不大于20mol%。
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公开(公告)号:CN1864205A
公开(公告)日:2006-11-15
申请号:CN200480028831.4
申请日:2004-10-05
CPC classification number: G11B5/65 , G11B5/656 , G11B5/7325
Abstract: 一种垂直磁性记录介质,包括:衬底;在所述衬底上方形成的至少一个底层;以及在所述至少一个底层上方形成的垂直磁性记录层,该垂直磁性记录层的容易磁化轴垂直于所述衬底,该垂直磁性记录层包括磁性晶体微粒和包围该磁性晶体微粒的颗粒边界,其中所述颗粒边界包含具有硅氧化物和从由Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr和Ba组成的组中选出的至少一个元素,以及垂直磁性记录层中的Si、Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr和Ba的物质的总量的比例不小于1mol%,且不大于20mol%。
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公开(公告)号:CN1551122A
公开(公告)日:2004-12-01
申请号:CN200410007277.3
申请日:2004-02-27
CPC classification number: G11B5/732 , G11B5/667 , G11B5/7325
Abstract: 磁记录介质和包含该磁记录介质的磁记录/再现装置,其中磁记录介质包含具有粒状结构的取向控制层(3),该取向控制层在衬底(1)和磁记录层(4)之间形成并包含基底材料和分散在基底材料上的颗粒并且具有小于颗粒粒径的厚度。
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公开(公告)号:CN1802697B
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN200480015635.3
申请日:2004-04-07
Abstract: 一种磁记录介质,其在非磁性基片上提供至少:取向控制层,用来控制直接形成于其上的层取向、垂直磁性层,具有取向基本垂直于非磁性基片的易磁化轴、以及保护层,垂直磁性层包括多个磁性层,其中包括上下接触的第一磁性层和第二磁性层,第一磁性层是主要成分为Co、还包含Pt且包含氧化物的下层,并且第二磁性层是主要成分为Co、还包含Cr且不包含氧化物的上层。下层具有散布在其中的磁性晶体颗粒,磁性晶体颗粒的周围离析出氧化物以对磁性晶体颗粒进行磁性隔离和精细划分,并且磁性晶体颗粒以柱状形式贯穿层,下层的柱状磁性晶体颗粒的上面外延生长有上层的磁性晶体颗粒且与其一对一、一对多或多对一对应。
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公开(公告)号:CN100505045C
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200480038388.9
申请日:2004-12-24
CPC classification number: G11B5/7325 , C23C14/0688 , C23C14/185 , G11B5/65 , G11B5/656 , G11B5/712 , G11B5/85
Abstract: 一种磁记录介质62,其中包括:衬底11;在衬底11上形成的底涂层13和14;以及磁记录层15,其包括磁性晶粒和包围所述晶粒的晶粒间界区域。晶粒间界区域包括钛氧化物,且磁记录层15中的钛氧化物的物质含量的比率为5mol%至15mol%之间,所述钛氧化物包括至少TiO和/或Ti2O3。
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