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公开(公告)号：CN1847305A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200610073199.6
申请日：2006-04-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社 , 共荣社化学株式会社
Abstract: 本发明提供作为防反射膜有用的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的用于形成低折射率膜的组合物。该用于形成低折射率膜的组合物由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经通式RnSiX(4－n)表示的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成。式中，R：碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X：碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。
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公开(公告)号：CN101501099A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200780029452.0
申请日：2007-03-12
IPC: C08G61/12 , C07C45/68 , C07C49/657 , C07C51/36 , C07C55/02 , C08F120/10 , C07B53/00 , C07B61/00 , C07F9/50
CPC classification number: C07F9/5027 , B01J31/1658 , B01J31/2452 , B01J2231/641 , B01J2231/643 , B01J2531/0266 , B01J2531/822 , C07B53/00 , C07C45/69 , C08F222/1006 , C08G61/12 , C08G63/00 , C08G63/6924 , C08G2261/344 , C08G2261/413 , C07C49/657
Abstract: 本发明提供一种能简便回收且能循环再利用的含双(二苯基膦基)联萘基团的聚合物，该聚合物可用作加成反应，尤其是不对称1，4－加成反应，或是还原反应，尤其是不对称还原反应的催化剂。所述含双(二苯基膦基)联萘基团的聚合物是以下重复单元形成的：5位被含多个(甲基)丙烯酰基的化合物中的一个(甲基)丙烯酰基的不饱和端基取代的外消旋或光学活性的2，2′－双(二苯基膦基)－1，1′－联萘化合物重复单元；5′位被所述含多个(甲基)丙烯酰基的化合物中的另一个(甲基)丙烯酰基的不饱和端基取代另一个2，2′－双(二苯基膦基)－1，1′－联萘化合物重复单元；所述聚合物的分子量为1500－10000。所述还原催化剂包含所述聚合物和过渡金属。
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公开(公告)号：CN101501099B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200780029452.0
申请日：2007-03-12
IPC: C08G61/12 , C07C45/68 , C07C49/657 , C07C51/36 , C07C55/02 , C08F120/10 , C07B53/00 , C07B61/00 , C07F9/50
CPC classification number: C07F9/5027 , B01J31/1658 , B01J31/2452 , B01J2231/641 , B01J2231/643 , B01J2531/0266 , B01J2531/822 , C07B53/00 , C07C45/69 , C08F222/1006 , C08G61/12 , C08G63/00 , C08G63/6924 , C08G2261/344 , C08G2261/413 , C07C49/657
Abstract: 本发明提供一种能简便回收且能循环再利用的含双(二苯基膦基)联萘基团的聚合物，该聚合物可用作加成反应，尤其是不对称1，4-加成反应，或是还原反应，尤其是不对称还原反应的催化剂。所述含双(二苯基膦基)联萘基团的聚合物是以下重复单元形成的：5位被含多个(甲基)丙烯酰基的化合物中的一个(甲基)丙烯酰基的不饱和端基取代的外消旋或光学活性的2，2′-双(二苯基膦基)-1，1′-联萘化合物重复单元；5′位被所述含多个(甲基)丙烯酰基的化合物中的另一个(甲基)丙烯酰基的不饱和端基取代另一个2，2′-双(二苯基膦基)-1，1′-联萘化合物重复单元；所述聚合物的分子量为1500-10000。所述还原催化剂包含所述聚合物和过渡金属。
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