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公开(公告)号：CN104808440A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510175139.4
申请日：2007-02-20
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物，含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和(C)光聚合引发剂，(B)成分含有(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，相对于(B)成分总量的比率，(B1)成分为15～30质量％，(B2)成分为40～70质量％，(B3)成分为15～30质量％。
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公开(公告)号：CN104133343A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410381648.8
申请日：2006-05-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/031 , C08F2/50 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/116 , Y10S430/121 , Y10S430/146
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有(A)重均分子量40000～80000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、及(C1)下述通式(1)所表示的化合物：[化1]式(1)中，R至少1个表示碳数1～10的烷氧基、或碳数1～12的烷基，a、b及c的总和为1～6，a、b及c的总和为2～6时，而同一分子中的复数的各个R可相同或不同。
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公开(公告)号：CN104133342A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410381593.0
申请日：2006-05-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/031 , C08F2/50 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/116 , Y10S430/121 , Y10S430/146
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物，其特征为，含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C1)下述通式(1)所表示的化合物，式(1)中，至少1个R表示碳数4～12的烷基，a、b及c的总和为1～6；a、b及c的总和为2～6时，同一分子中的复数的各个R相同或相异。
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公开(公告)号：CN102662306A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201210142249.7
申请日：2007-04-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370~420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，所述保护膜是以聚丙烯为主要成分。
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公开(公告)号：CN101421671A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200780013593.3
申请日：2007-04-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370～420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，所述保护膜是以聚丙烯为主要成分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101218538A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024515.9
申请日：2006-07-03
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , H01J9/242 , H01J11/36 , Y10S430/121 , Y10S430/127
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有：(A)粘合剂聚合物、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)含有2，4，5－三芳基咪唑二聚物或其衍生物的光自由基聚合引发剂和(D)以下述通式(1)表示的化合物。式(1)中，R1和R2分别独立地表示碳原子数1～20的烷基等，R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地表示氢原子等。
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公开(公告)号：CN101421671B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200780013593.3
申请日：2007-04-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370～420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，所述保护膜是以聚丙烯为主要成分。
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公开(公告)号：CN102012634A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010539645.4
申请日：2006-05-22
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/031 , C08F2/50 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/116 , Y10S430/121 , Y10S430/146
Abstract: 本申请涉及感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。该感光性树脂组合物，含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、及(C1)下述通式(1)所表示的化合物：式(1)中，R至少1个表示碳数1～10的烷氧基，a、b及c的总和为1～6；a、b及c的总和为2～6时，而同一分子中的复数的各个R可相同或不同。依据本发明，提供能以充足的感光度及分辨率进行通过直接绘图曝光法形成光致抗蚀图形的感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、光致抗蚀图形的形成方法、印刷电路板的制造方法。
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公开(公告)号：CN101218538B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200680024515.9
申请日：2006-07-03
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , H01J9/242 , H01J11/36 , Y10S430/121 , Y10S430/127
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有：(A)粘合剂聚合物、(B)具有能够聚合的乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)含有2，4，5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物的光自由基聚合引发剂和(D)以下述通式(1)表示的化合物。【化1】式(1)中，R1和R2分别独立地表示碳原子数1～20的烷基等，R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地表示氢原子等。
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公开(公告)号：CN101384961A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005477.7
申请日：2007-02-20
Applicant: 日立化成工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有(A)重均分子量为35000～65000的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂，(B)成分含有(B1)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(B2)具有两个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及(B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，(B3)成分相对于(B)成分总量的比率为15～30质量％。
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