公开(公告)号：CN1600881A

公开(公告)日：2005-03-30

申请号：CN200410068497.7

申请日：2004-07-30

Applicant: 日矿金属加工株式会社

Inventor： 新见寿宏

IPC: C22C9/06

Abstract: 本发明的目的在于改良作为用于连接器等电子材料的高强度铜合金的Cu－Ni－Si类合金的疲劳特性。Cu－Ni－Si类合金，其特征在于：基于质量百分率(％)(以下用％表示)，含有Ni：1.0～4.5％、Si：0.2～1.2％，残余部分为Cu和不能避免的杂质，表面存在20～200MPa的压缩残余应力，该铜合金具有优异的疲劳特性。

公开(公告)号：CN1540013A

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：CN200410036828.9

申请日：2004-04-19

Applicant: 日矿金属加工株式会社

Inventor： 石川泰靖 ,  新见寿宏 ,  波多野隆绍

IPC: C22C9/06

Abstract: 提供一种兼具高强度及高导电性的电子材料用Cu－Ni－Si合金，其特征在于，在含有1.0～4.5质量％(以下为％)的Ni、0.25～1.5％的Si、其余是由Cu及不可避免的杂质构成的铜基合金中，在Ni和Si的质量浓度为[Ni]、[Si]时，Ni与Si的质量浓度比(以下为[Ni]/[Si])为4～6、并且是使(式1)所定义的x为0.1～0.45的[Ni]、[Si]，([Ni]－4x)2([Si]－x)＝1/8……(式1)。