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公开(公告)号：CN103149617A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310064378.3
申请日：2008-05-28
Applicant: 日本电波工业株式会社
IPC: G02B5/20
CPC classification number: C23C14/541 , C23C14/505 , Y10T428/12396 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101319301B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200810098274.3
申请日：2008-05-28
Applicant: 日本电波工业株式会社
IPC: C23C14/24 , C23C14/54 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/541 , C23C14/505 , Y10T428/12396 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。
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公开(公告)号：CN102758180A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210126476.0
申请日：2012-04-26
Applicant: 日本电波工业株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: B05C11/00 , C23C14/243 , C23C14/30 , G02B5/22 , Y10T428/24479 , Y10T428/24628
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜形成用炉缸内衬，在将蒸镀材料附着在基板上而形成光学薄膜的炉缸内衬中，防止将来自电子枪的电子束照射于蒸镀材料而进行熔融/气化时所产生的暴沸(飞溅)。本发明的光学薄膜形成用炉缸内衬的特征在于，在从电子枪将电子束照射于蒸镀材料而在基板上形成光学薄膜的真空蒸镀装置的炉缸内衬(1)中，该炉缸内衬(1)的蒸镀材料收纳部(2)的截面形状为浅半圆形(球)状(碗状)。
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公开(公告)号：CN101464534B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN200810179282.0
申请日：2008-12-16
Applicant: 日本电波工业株式会社
CPC classification number: G02B5/285
Abstract: 一种光学多层膜滤波器及其制造方法，通过形成光学多层膜滤波器(30)来取代氧化铟锡(ITO)，使得光学多层膜滤波器(30)的表面具有导电性，从而消除来自光学低通滤波器的静电。光学多层膜滤波器(30)是互相交替地层叠多个由高折射率材料构成的高折射率薄膜(32)和由低折射率材料构成的低折射率薄膜(33)的多层膜形成在透明基板(20)上的光学多层膜滤波器。其次，在最终层上形成由小于高折射率材料及低折射率材料的原子量组成的蒸镀材料(31)。
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公开(公告)号：CN101464534A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810179282.0
申请日：2008-12-16
Applicant: 日本电波工业株式会社
CPC classification number: G02B5/285
Abstract: 一种光学多层膜滤波器及其制造方法，通过形成光学多层膜滤波器(30)来取代氧化铟锡(ITO)，使得光学多层膜滤波器(30)的表面具有导电性，从而消除来自光学低通滤波器的静电。光学多层膜滤波器(30)是互相交替地层叠多个由高折射率材料构成的高折射率薄膜(32)和由低折射率材料构成的低折射率薄膜(33)的多层膜形成在透明基板(20)上的光学多层膜滤波器。其次，在最终层上形成由小于高折射率材料及低折射率材料的原子量组成的蒸镀材料(31)。
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公开(公告)号：CN101319301A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200810098274.3
申请日：2008-05-28
Applicant: 日本电波工业株式会社
IPC: C23C14/24 , C23C14/54 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/541 , C23C14/505 , Y10T428/12396 , Y10T428/24479 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。
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