公开(公告)号：CN103149617A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201310064378.3

申请日：2008-05-28

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 龟卦川伸也 ,  西利真 ,  高田元生

IPC: G02B5/20

CPC classification number: C23C14/541 ,  C23C14/505 ,  Y10T428/12396 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495

Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。

公开(公告)号：CN112624622A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202010846893.7

申请日：2020-08-21

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 龟卦川伸也 ,  高田元生

IPC: C03C17/00 ,  C03C23/00 ,  C03B32/00

Abstract: 本发明提供一种光学坯件，即便经过可靠性试验也不易产生龟裂等。光学坯件的平面形状为四方形状，具有第一主面及与所述第一主面为相反侧的第二主面。光学坯件包括：C面加工部，形成于四个角部；以及R面加工部，形成于C面加工部与将第一主面和第二主面相连的侧面交叉的部位。优选侧面的全部或一部分经C面加工或R面加工。

公开(公告)号：CN101319301B

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN200810098274.3

申请日：2008-05-28

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 龟卦川伸也 ,  西利真 ,  高田元生

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L21/203

CPC classification number: C23C14/541 ,  C23C14/505 ,  Y10T428/12396 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495

Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。

公开(公告)号：CN101464534B

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN200810179282.0

申请日：2008-12-16

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 高田元生 ,  龟卦川伸也 ,  西利真 ,  石川裕人

IPC: G02B5/20 ,  C23C14/24

CPC classification number: G02B5/285

Abstract: 一种光学多层膜滤波器及其制造方法，通过形成光学多层膜滤波器(30)来取代氧化铟锡(ITO)，使得光学多层膜滤波器(30)的表面具有导电性，从而消除来自光学低通滤波器的静电。光学多层膜滤波器(30)是互相交替地层叠多个由高折射率材料构成的高折射率薄膜(32)和由低折射率材料构成的低折射率薄膜(33)的多层膜形成在透明基板(20)上的光学多层膜滤波器。其次，在最终层上形成由小于高折射率材料及低折射率材料的原子量组成的蒸镀材料(31)。

公开(公告)号：CN101464534A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810179282.0

申请日：2008-12-16

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 高田元生 ,  龟卦川伸也 ,  西利真 ,  石川裕人

IPC: G02B5/20 ,  C23C14/24

CPC classification number: G02B5/285

Abstract: 一种光学多层膜滤波器及其制造方法，通过形成光学多层膜滤波器(30)来取代氧化铟锡(ITO)，使得光学多层膜滤波器(30)的表面具有导电性，从而消除来自光学低通滤波器的静电。光学多层膜滤波器(30)是互相交替地层叠多个由高折射率材料构成的高折射率薄膜(32)和由低折射率材料构成的低折射率薄膜(33)的多层膜形成在透明基板(20)上的光学多层膜滤波器。其次，在最终层上形成由小于高折射率材料及低折射率材料的原子量组成的蒸镀材料(31)。

公开(公告)号：CN101319301A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200810098274.3

申请日：2008-05-28

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 龟卦川伸也 ,  西利真 ,  高田元生

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L21/203

CPC classification number: C23C14/541 ,  C23C14/505 ,  Y10T428/12396 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495

Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。