雪崩光电二极管
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102257640A

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200980150764.6

    申请日:2009-12-11

    CPC classification number: H01L31/1075

    Abstract: 本发明的目的是提供具有不必高精度地控制埋入n电极构造的n型区域的掺杂剖面就能够抑制边缘击穿的构造的埋入n电极构造的电子注入型APD。本发明的APD在n电极连接层(32)和雪崩倍增层(34)之间插入有离子化率低的缓冲层(33)。具体地说,是依次层叠了n电极层(31)、n电极连接层(32)、缓冲层(33)、雪崩倍增层(34)、电场控制层(35)、带隙倾斜层(36)、低浓度光吸收层(37a)、p型光吸收层(37b)及p电极层(38),至少由低浓度光吸收层(37a)和p型光吸收层(37b)组成的光吸收部(37)形成台面形状的电子注入型APD。

    光波导集成光接收元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN109075219B

    公开(公告)日:2022-01-28

    申请号:CN201780024438.5

    申请日:2017-04-14

    Abstract: 一种光波导集成光接收元件设置有光波导(105),该光波导设置在第二接触层(102)的与设置有光吸收层(103)的一侧相反的一侧上,并且该光波导与第二接触层(102)光学耦合并具有与光吸收层(103)的平面平行的波导方向。第二接触层(102)在平面图中具有比光吸收层(103)的面积小的面积,并且设置在光吸收层(103)的内侧。

    雪崩光电二极管
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107004734A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580066179.3

    申请日:2015-11-27

    CPC classification number: H01L31/1075 H01L31/022416 H01L31/035281

    Abstract: 为了在不牺牲光接收灵敏度和高速度的情况下获得高线性度,雪崩光电二极管包括形成在第一光吸收层(102)上的雪崩层(103)、形成在雪崩层(103)上的n场控制层(104)以及形成在场控制层(104)上的第二光吸收层(105)。如果施加反向偏置电压,则场控制层(104)中的施主杂质离化,并且在雪崩层(103)中诱发高电场。场控制层(104)中的n型掺杂量设置为使得第二光吸收层(105)中的杂质浓度在反向偏置施加时充分耗尽。

    雪崩光电二极管
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103081129B

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201180042210.1

    申请日:2011-09-01

    CPC classification number: H01L31/035281 H01L31/03046 H01L31/1075 Y02E10/544

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够降低台面表面、电极层的形状所引起的暗电流的APD。APD(301)具备:半绝缘性基板(1);在半绝缘性基板(1)面上,按照p型电极层(2)、p型光吸收层(3A)、低杂质浓度的光吸收层(3B)、带隙倾斜层(4)、p型电场控制层(5)、雪崩倍增层(6)、n型电场控制层(7A)、以及低杂质浓度的电子行进层(7B)的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面(101);以及从层叠方向看,外周处于第1台面(101)的外周的内侧,在第1台面(101)的电子行进层(7B)侧的表面上,按照n型电极缓冲层(8A)、以及n型电极层(8B)的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面(102),n型电场控制层(7A)的总施主浓度比p型电场控制层(5)的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。

    雪崩光电二极管
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103081129A

    公开(公告)日:2013-05-01

    申请号:CN201180042210.1

    申请日:2011-09-01

    CPC classification number: H01L31/035281 H01L31/03046 H01L31/1075 Y02E10/544

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够降低台面表面、电极层的形状所引起的暗电流的APD。APD(301)具备:半绝缘性基板(1);在半绝缘性基板(1)面上,按照p型电极层(2)、p型光吸收层(3A)、低杂质浓度的光吸收层(3B)、带隙倾斜层(4)、p型电场控制层(5)、雪崩倍增层(6)、n型电场控制层(7A)、以及低杂质浓度的电子行进层(7B)的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面(101);以及从层叠方向看,外周处于第1台面(101)的外周的内侧,在第1台面(101)的电子行进层(7B)侧的表面上,按照n型电极缓冲层(8A)、以及n型电极层(8B)的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面(102),n型电场控制层(7A)的总施主浓度比p型电场控制层(5)的总受主浓度低2×1011~1×1012/cm2的范围。

    光波导集成光接收元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN109075219A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780024438.5

    申请日:2017-04-14

    Abstract: 一种光波导集成光接收元件设置有光波导(105),该光波导设置在第二接触层(102)的与设置有光吸收层(103)的一侧相反的一侧上,并且该光波导与第二接触层(102)光学耦合并具有与光吸收层(103)的平面平行的波导方向。第二接触层(102)在平面图中具有比光吸收层(103)的面积小的面积,并且设置在光吸收层(103)的内侧。

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