公开(公告)号：CN1905991A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200580001597.0

申请日：2005-07-13

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 泉敏裕 ,  田村淳 ,  永峯拓也 ,  荒幡高志

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  Y10T428/24628 ,  Y10T428/24669

Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内使晶圆表面均匀地平坦化的研磨垫。此研磨垫是具有高压缩恢复率和低压缩率的硬质研磨垫。研磨垫10由合成树脂的无泡沫体组成的薄片状的垫主体11构成。垫主体的肖氏D硬度在66.0～78.5的范围，优选70.0～78.5范围，更优选70.0～78.0的范围，最优选72.0～76.0的范围。垫主体的压缩率在4％以下的范围，优选2％以下的范围。垫主体的压缩恢复率在50以上％的范围，优选70％以上的范围。

公开(公告)号：CN1771587A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200480009708.8

申请日：2004-04-08

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 多久智 ,  泉敏裕 ,  斋藤满 ,  永峰拓也 ,  C·米勒 ,  I·柯达卡

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明提供应用判断结束研磨的时刻的研磨技术，可以平滑、平坦而稳定地研磨被研磨物表面的研磨垫及其制造方法。由表面上具有研磨面11a的透光性垫构成的研磨垫10。通过在透光性垫11的背面11b形成凹部12，可以局部地改变透光率。透光性垫11对于在350～900nm光波长范围内至少一种波长的光具有10％以上，优选30％以上的透光率。透光性垫11优选在370～900nm的整个光波长范围内，更优选在390～900nm的整个光波长范围内显示10％以上的透光率。另外，透光性垫11优选在400～900nm的整个光波长范围内，更优选在450～900nm的整个光波长范围内显示30％以上的透光率。

公开(公告)号：CN1438930A

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN01811995.6

申请日：2001-08-06

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 多久智 ,  泉敏裕 ,  小林俊裕

IPC: B24B37/00

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D3/28 ,  B24D11/02

Abstract: 提供一种研磨片及制造方法，该研磨片不随使用时间的推移而变形，可用高的研磨速率使研磨对象物表面均匀平坦。研磨片10由织物片12和树脂14构成，其中织物片由1根纤维13、或由多根纤维13束集起来形成的纤维束13、或把多束由多根纤维束集而成的纤维束进一步束集起来形成的纤维束13构成，树脂用于将该织物片的纤维或纤维束13之间固定住。本发明的研磨片10固定在衬底片15的表面上。缎纹数最好在3～15范围。