公开(公告)号：CN101300321B

公开(公告)日：2012-02-01

申请号：CN200680040783.X

申请日：2006-10-31

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 熊坂登行 ,  堀江祐二 ,  斋藤满 ,  山口和荣

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C01B31/06 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24D11/00 ,  C01B32/25 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明提供可再现性良好地生产没有加工不均的规定品质的加工品的研磨材料及其制备方法。所述研磨材料由周围附着有杂质(15)的一次粒径在20nm以下的人造金刚石颗粒(11)结合成团簇状而成的团簇金刚石(10)构成。团簇金刚石(10)的杂质(15)中所含的非金刚石碳浓度在95％以上、99％以下的范围，团簇金刚石(10)的非金刚石碳以外的杂质中所含的氯浓度在0.5％以上的范围。团簇金刚石(10)的团簇直径在30nm以上、500nm以下范围，平均团簇直径(D50)在30nm以上、200nm以下的范围。

公开(公告)号：CN101300321A

公开(公告)日：2008-11-05

申请号：CN200680040783.X

申请日：2006-10-31

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 熊坂登行 ,  堀江祐二 ,  斋藤满 ,  山口和荣

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C01B31/06 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24D11/00 ,  C01B32/25 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明提供可再现性良好地生产没有加工不均的规定品质的加工品的研磨材料及其制备方法。所述研磨材料由周围附着有杂质(15)的一次粒径在20nm以下的人造金刚石颗粒(11)结合成团簇状而成的团簇金刚石(10)构成。团簇金刚石(10)的杂质(15)中所含的非金刚石碳浓度在95％以上、99％以下的范围，团簇金刚石(10)的非金刚石碳以外的杂质中所含的氯浓度在0.5％以上的范围。团簇金刚石(10)的团簇直径在30nm以上、500nm以下范围，平均团簇直径(D50)在30nm以上、200nm以下的范围。

公开(公告)号：CN1771587A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200480009708.8

申请日：2004-04-08

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 多久智 ,  泉敏裕 ,  斋藤满 ,  永峰拓也 ,  C·米勒 ,  I·柯达卡

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明提供应用判断结束研磨的时刻的研磨技术，可以平滑、平坦而稳定地研磨被研磨物表面的研磨垫及其制造方法。由表面上具有研磨面11a的透光性垫构成的研磨垫10。通过在透光性垫11的背面11b形成凹部12，可以局部地改变透光率。透光性垫11对于在350～900nm光波长范围内至少一种波长的光具有10％以上，优选30％以上的透光率。透光性垫11优选在370～900nm的整个光波长范围内，更优选在390～900nm的整个光波长范围内显示10％以上的透光率。另外，透光性垫11优选在400～900nm的整个光波长范围内，更优选在450～900nm的整个光波长范围内显示30％以上的透光率。