Patent search ap:("日本微涂料株式会社") AND inv:"荒幡高志" Page 1

1.

发明公开
研磨垫无效

公开(公告)号：CN1905991A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200580001597.0

申请日：2005-07-13

Applicant: 日本微涂料株式会社

Inventor： 泉敏裕 , 田村淳 , 永峯拓也 , 荒幡高志

IPC: B24B37/00 , H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 , Y10T428/24628 , Y10T428/24669

Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内使晶圆表面均匀地平坦化的研磨垫。此研磨垫是具有高压缩恢复率和低压缩率的硬质研磨垫。研磨垫10由合成树脂的无泡沫体组成的薄片状的垫主体11构成。垫主体的肖氏D硬度在66.0～78.5的范围，优选70.0～78.5范围，更优选70.0～78.0的范围，最优选72.0～76.0的范围。垫主体的压缩率在4％以下的范围，优选2％以下的范围。垫主体的压缩恢复率在50以上％的范围，优选70％以上的范围。

Patent Agency Ranking