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公开(公告)号：CN101661862B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200910152044.5
申请日：2009-07-15
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , C23C14/48
CPC classification number: H01J27/14
Abstract: 本发明提供一种离子源，其生成含有铝离子的离子束，所述离子源包括：等离子体生成容器(2)，含氟可电离气体(8)被导入其中；热阴极(12)，设置在该等离子体生成容器(2)内的一侧；对置反射电极(20)，设置在等离子体生成容器(2)内的另外一侧，相对于该等离子体生成容器(2)被施加来自于偏压电源(24)的负电压VB，其反射电子；以及磁铁(30)，在等离子体生成容器(2)内产生磁场(28)，该磁场沿着连接热阴极(12)和对置反射电极(20)的线，所述对置反射电极(20)由含铝材料构成。与以往的离子源相比，本发明的离子源可以削减部件的数量并简化结构。
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公开(公告)号：CN101661862A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910152044.5
申请日：2009-07-15
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , C23C14/48
CPC classification number: H01J27/14
Abstract: 本发明提供一种离子源，其生成含有铝离子的离子束，所述离子源包括：等离子体生成容器(2)，含氟可电离气体(8)被导入其中；热阴极(12)，设置在该等离子体生成容器(2)内的一侧；对置反射电极(20)，设置在等离子体生成容器(2)内的另外一侧，相对于该等离子体生成容器(2)被施加来自于偏压电源(24)的负电压V B ，其反射电子；以及磁铁(30)，在等离子体生成容器(2)内产生磁场(28)，该磁场沿着连接热阴极(12)和对置反射电极(20)的线，所述对置反射电极(20)由含铝材料构成。与以往的离子源相比，本发明的离子源可以削减部件的数量并简化结构。
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公开(公告)号：CN102097271B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201010225325.1
申请日：2010-07-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J27/20
CPC classification number: H01J27/022
Abstract: 本发明提供一种反射电极结构件和离子源，能在尽可能增大被溅射面的面积的同时，不仅能简化被溅射构件的安装结构，而且能使反射电极结构件紧凑，并且能提高对从阴极发射出来的电子进行反射的反射效率。反射电极结构件(4)设置在等离子体生成容器(2)内，与阴极(3)相对配置，把电子向阴极(3)一侧反射，其包括：被溅射构件(41)，通过被等离子体溅射，放出规定的离子，具有贯通被溅射面(41A)和被溅射构件背面的贯通孔(411)；以及电极主体(42)，插入被溅射构件(41)的贯通孔(411)中，支承被溅射构件(41)，并且具有通过贯通孔(411)在被溅射面(41A)一侧露出的反射电极面(42X)。
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公开(公告)号：CN102097271A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010225325.1
申请日：2010-07-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J27/20
CPC classification number: H01J27/022
Abstract: 本发明提供一种反射电极结构件和离子源，能在尽可能增大被溅射面的面积的同时，不仅能简化被溅射构件的安装结构，而且能使反射电极结构件紧凑，并且能提高对从阴极发射出来的电子进行反射的反射效率。反射电极结构件(4)设置在等离子体生成容器(2)内，与阴极(3)相对配置，把电子向阴极(3)一侧反射，其包括：被溅射构件(41)，通过被等离子体溅射，放出规定的离子，具有贯通被溅射面(41A)和被溅射构件背面的贯通孔(411)；以及电极主体(42)，插入被溅射构件(41)的贯通孔(411)中，支承被溅射构件(41)，并且具有通过贯通孔(411)在被溅射面(41A)一侧露出的反射电极面(42X)。
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