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发明公开
基板输送方法和基板处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN117293069A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202211579625.9

申请日：2022-12-09

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 糸井骏 , 王建 , 村山乔之 , 大村俊辅 , 井上真辅

IPC: H01L21/677 , H01L21/683

Abstract: 本发明提供基板输送方法和基板处理装置，能有效降低从基板保护膜释放的气体对基板输送的影响，实现更稳定的基板输送。在基板处理装置(A)中，至少根据处理室(1)中的基板处理时间，变更从预真空室(2)至静电吸盘(E)为止的基板输送时间。基板处理装置(A)包括：所述静电吸盘(E)，具有将滞留于基板支撑面(S)的气体向外部排出的气体排出通道(G)；所述处理室(1)，对支撑于静电吸盘(E)的基板(W)实施处理；以及所述预真空室(2)，通过将内部的气氛从大气变更为真空，从而能够向处理室(1)输送基板(W)。

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