公开(公告)号：CN101186826A

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：CN200710107923.7

申请日：2007-05-15

Applicant: 新光电气工业株式会社

Inventor： 中村纪和 ,  中泽昌夫 ,  宫本秀一 ,  宫泽贤二 ,  齐藤学

IPC: C09K13/04 ,  H05K3/00

CPC classification number: H05K3/0055 ,  B01J19/006 ,  B01J19/18 ,  B01J19/1825 ,  B01J2219/00038 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00768 ,  C01G45/1207 ,  C01P2006/80 ,  H05K2203/0796

Abstract: 将用过的碱性高锰酸盐蚀刻液(12)供入反应室(20)内，并将诸如氢氧化钙之类的碱土氢氧化物(14)加入到反应室中，搅动反应室内部的液体，从反应室的侧部或顶部通过过滤器(28)排放液体，刮掉附着在所述过滤器上的沉淀(26)，并从反应室排出沉淀，该沉淀含有不能通过过滤器的并积聚在反应室底部的难溶性或不溶性物质。

公开(公告)号：CN100406619C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN03800110.1

申请日：2003-02-05

Applicant: 新光电气工业株式会社

Inventor： 竹前孝博 ,  宫崎郁雄 ,  宫泽贤二

IPC: C25F7/02 ,  C23F1/46

CPC classification number: C23F1/46 ,  C25F7/02

Abstract: 本发明公开了一种能够尽量减少当包含金属离子的蚀刻流体在其中具有电极的再循环槽中再循环时所产生的不溶性淤渣并消除对特意安装淤渣去除装置如淤渣去除槽的需求的电解再循环设备，特征在于，再生槽(12)的内部划分成多个隔室(12a-12h)使得由再循环槽的供料侧供给的蚀刻流体连续地流向出口方向，同时交替地将流动方向改变为上侧和下侧，电极(16，16，16)设置在选自所述多个隔室的其中蚀刻流体向上流动的那些隔室(12b，12d，12f)中，和用于搅拌蚀刻流体的搅拌装置安装在隔室(12a-12h)中蚀刻流体流动停滞的位置。

公开(公告)号：CN1498291A

公开(公告)日：2004-05-19

申请号：CN03800110.1

申请日：2003-02-05

Applicant: 新光电气工业株式会社

Inventor： 竹前孝博 ,  宫崎郁雄 ,  宫泽贤二

IPC: C25F7/02 ,  C23F1/46

CPC classification number: C23F1/46 ,  C25F7/02

Abstract: 本发明公开了一种能够尽量减少当包含金属离子的蚀刻流体在其中具有电极的再循环槽中再循环时所产生的不溶性淤渣并消除对特意安装淤渣去除装置如淤渣去除槽的需求的电解再循环设备，特征在于，再生槽(12)的内部划分成多个隔室(12a－12h)使得由再循环槽的供料侧供给的蚀刻流体连续地流向出口方向，同时交替地将流动方向改变为上侧和下侧，电极(16，16，16)设置在选自所述多个隔室的其中蚀刻流体向上流动的那些隔室(12b，12d，12f)中，和用于搅拌蚀刻流体的搅拌装置安装在隔室(12a－12h)中蚀刻流体流动停滞的位置。