公开(公告)号：CN101378631A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200810146717.1

申请日：2008-08-27

Applicant: 新光电气工业株式会社

Inventor： 中村纪和

IPC: H05K3/38 ,  H05K3/26 ,  H05K3/18

CPC classification number: H05K3/381 ,  H05K2203/0793 ,  H05K2203/0796

Abstract: 本发明涉及一种蚀刻处理方法，其特征在于，当通过使用含有碱性高锰酸盐蚀刻液的去钻污液在树脂部件上进行蚀刻处理时，通过将所述树脂部件浸渍到所述去钻污液中进行蚀刻处理，其中所述去钻污液通过使用用于促进所述去钻污液的蚀刻速率的促进剂和用于抑制所述去钻污液的蚀刻速率的抑制剂中的至少一种物质来调节对形成所述树脂部件的树脂的蚀刻速率。

公开(公告)号：CN101186826A

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：CN200710107923.7

申请日：2007-05-15

Applicant: 新光电气工业株式会社

Inventor： 中村纪和 ,  中泽昌夫 ,  宫本秀一 ,  宫泽贤二 ,  齐藤学

IPC: C09K13/04 ,  H05K3/00

CPC classification number: H05K3/0055 ,  B01J19/006 ,  B01J19/18 ,  B01J19/1825 ,  B01J2219/00038 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00768 ,  C01G45/1207 ,  C01P2006/80 ,  H05K2203/0796

Abstract: 将用过的碱性高锰酸盐蚀刻液(12)供入反应室(20)内，并将诸如氢氧化钙之类的碱土氢氧化物(14)加入到反应室中，搅动反应室内部的液体，从反应室的侧部或顶部通过过滤器(28)排放液体，刮掉附着在所述过滤器上的沉淀(26)，并从反应室排出沉淀，该沉淀含有不能通过过滤器的并积聚在反应室底部的难溶性或不溶性物质。