公开(公告)号：CN118382774A

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202280079396.6

申请日：2022-11-29

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： T·K·佩鲁马尔 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  S·古达蒂 ,  M·利维 ,  S·巴罗利 ,  E·E·琼斯

IPC: F17C13/04 ,  F17C7/00

Abstract: 本公开涉及一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件，也不是由多个单独组件组装而成，或两者。

公开(公告)号：CN119318008A

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202380044663.0

申请日：2023-06-02

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 一种用于清洁衬底的装置。所述装置包括聚合垫、框架本体及耦合部件。所述聚合垫具有顶面及底面。所述框架本体的至少一部分在所述聚合垫的所述顶面与所述底面之间延伸。耦合部件从所述框架本体的至少一部分向上延伸。

公开(公告)号：CN118318151A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202280079056.3

申请日：2022-11-29

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： T·K·佩鲁马尔 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  S·古达蒂 ,  M·利维 ,  S·巴罗利 ,  E·E·琼斯

IPC: G01L19/14 ,  G01L19/00

Abstract: 一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测装置(PSD)。所述PSD可经由增材制造工艺制造以包含第一及第二单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构在所述工艺期间一起制成。所述PSD可在无任何焊接组件或伸缩管的情况下制成。

公开(公告)号：CN119137720A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202380037284.9

申请日：2023-05-31

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  S·古达蒂 ,  M·利维

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/12 ,  B08B1/20 ,  B08B1/34

Abstract: 提供一种用于半导体制造工艺的清洁刷。所述清洁刷包含芯及刷部件。所述芯包含圆周部分及闭端部分。所述圆周部分包围所述清洁刷的旋转轴线且界定用于接收流体的入口开口。所述闭端部分经连接到沿所述旋转轴线与所述入口开口相对的所述圆周部分的端。至少一个细长导管经界定于所述芯内且与所述入口开口流体连通，且所述圆周部分包含穿过其以与所述细长导管流体连通的多个出口通道，所述出口通道朝向所述闭端部分向外倾斜。所述刷部件经连接到所述圆周部分的外表面且覆盖所有所述出口通道。

公开(公告)号：CN118715184A

公开(公告)日：2024-09-27

申请号：CN202380022024.4

申请日：2023-01-20

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： M·F·冈萨雷斯 ,  K·迈尔斯 ,  L·海斯 ,  S·古达蒂 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  M·利维

IPC: C03B9/447 ,  C03B35/04

Abstract: 本公开描述自动化玻璃制造设备，且具体来说涉及被称为“取出固持器”的装置，以及使用所述取出固持器的系统及制造并使用所述取出固持器的方法。

公开(公告)号：CN118318126A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202280079053.X

申请日：2022-11-29

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： T·K·佩鲁马尔 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  S·古达蒂 ,  M·利维 ,  S·巴罗利 ,  E·E·琼斯

IPC: F17C13/04 ,  F17C13/02

Abstract: 一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件，也非由多个单独组件组装而成，或两者。

公开(公告)号：CN308478539S

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202230844649.7

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫(II‑1)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
3

公开(公告)号：CN308354097S

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202230813029.7

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫(I‑1)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
4

公开(公告)号：CN308800192S

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202230814070.6

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫的中心部(II‑2)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于该化学机械研磨垫的图中实线所示出的部分的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：图中实线所示出的部分为本外观设计所请求保护的部分，图中虚线所示出的部分不构成本外观设计所请求保护的内容。

公开(公告)号：CN308800191S

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202230813505.5

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫的中心部（I‑2）。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于该化学机械研磨垫的图中实线所示出的部分的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
6.其他需要说明的情形其他说明：图中实线所示出的部分为本外观设计所请求保护的部分，图中虚线所示出的部分不构成本外观设计所请求保护的内容。