公开(公告)号：CN119318008A

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202380044663.0

申请日：2023-06-02

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 一种用于清洁衬底的装置。所述装置包括聚合垫、框架本体及耦合部件。所述聚合垫具有顶面及底面。所述框架本体的至少一部分在所述聚合垫的所述顶面与所述底面之间延伸。耦合部件从所述框架本体的至少一部分向上延伸。

公开(公告)号：CN308478539S

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202230844649.7

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫(II‑1)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
3

公开(公告)号：CN308354097S

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202230813029.7

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫(I‑1)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
4

公开(公告)号：CN308800192S

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202230814070.6

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫的中心部(II‑2)。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于该化学机械研磨垫的图中实线所示出的部分的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：图中实线所示出的部分为本外观设计所请求保护的部分，图中虚线所示出的部分不构成本外观设计所请求保护的内容。

公开(公告)号：CN308800191S

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202230813505.5

申请日：2022-12-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Designer： S·古达蒂 ,  H·金 ,  A·瓦桑塔库马尔 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：化学机械研磨垫的中心部（I‑2）。
2.本外观设计产品的用途：用于平坦化衬底，例如对晶圆进行化学机械研磨。
3.本外观设计产品的设计要点：在于该化学机械研磨垫的图中实线所示出的部分的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。
6.其他需要说明的情形其他说明：图中实线所示出的部分为本外观设计所请求保护的部分，图中虚线所示出的部分不构成本外观设计所请求保护的内容。