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公开(公告)号：CN118313679A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410396523.6
申请日：2024-04-03
Applicant: 广东奥博信息产业股份有限公司 , 广东工业大学 , 广东技术师范大学
IPC: G06Q10/0637 , G06Q50/06 , G06Q50/26 , G06Q10/0639
Abstract: 本发明公开了一种水环境风险研判管理方法，涉及水环境管理领域，所述一种水环境风险研判管理方法包括以下步骤：S1:流域陆域控制单元的划分步骤，陆域控制单元为流域水质目标管理多层次体系，是流域单元、区域单元、控制单元中的一个组成层次，作为流域复杂水环境问题的基础单元，陆域控制单元划分时需充分考虑小流域的完整性及河流的上下游关系，为流域水污染防治和风险管理的重要单元；本发明能够开展风险等级评价，还可以快速绘制了突发水污染风险等级图，能够有效应对区域突发水污染事件，能够做到保护水资源和水环境，还可以对人民的生命和财产安全提供技术支持和决策借鉴。
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公开(公告)号：CN115449346B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202211053626.X
申请日：2022-08-31
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于磁流变抛光的四氧化三铁复合颗粒的制备方法及装置，制备方法包括以下步骤：A、利用反应原料通过水热反应制备预设形状的反应物；反应原料包括乙二醇、尿素和六合水氯化铁，预设形状包括多边形、花形、空心圆形或实心球状；B、利用清洗剂反应物进行清洗并干燥；C、在惰性气体的环境中，对四氧化三铁前驱体进行煅烧，得到具有预设形状的四氧化三铁颗粒；D、将磨料与粘结剂混合，得到混合溶液；E、将混合溶液喷向四氧化三铁颗粒，得到四氧化三铁复合颗粒。本方案提出的一种用于磁流变抛光的四氧化三铁复合颗粒的制备方法，方法简单，操作性强，有利于在磁流变抛光的过程中，提升抛光工件表面的加工质量和加工效率。
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公开(公告)号：CN111069984B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN201911422110.6
申请日：2019-12-31
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种动态磁场磁流变抛光装置及抛光方法，包括基座、抛光盘、动磁场发生组件、工件装夹组件、超声组件、第一驱动组件以及第二驱动组件：工件装夹组件安装于基座且工件装夹组件设于抛光盘上方，抛光盘与第一驱动组件连接，动磁场发生组件与第二驱动组件连接，动磁场发生组件设于抛光盘下方，第一驱动组件、第二驱动组件安装于基座，超声组件安装于抛光盘的侧部，抛光盘内盛装有磁流变抛光液。本发明通过动态磁场实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐，通过超声波辅助化学反应使得化学反应更加充分，通过装夹盘公转和自转，使工件充分与磁流变抛光液接触，提高抛光效率。
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公开(公告)号：CN117564815A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311103263.0
申请日：2023-08-30
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明涉及超精密加工设备的技术领域，更具体地，涉及一种光电芬顿复合磁流变抛光装置及使用方法，一种光电芬顿复合磁流变抛光装置，包括夹具、抛光池、悬臂、驱动机构、分散机构、磁场发生机构、电场发生机构及电源；所述抛光池顶部开设有用于盛装抛光液的抛光槽；所述悬臂上设有向夹具发出光线的发光机构；通过设置磁场发生机构使得抛光液对工件进行物理机械抛光，电场发生机构使得抛光液与工件之间产生电芬顿反应，从而使得工件表面被氧化形成氧化层，此时抛光液在磁场作用下形成的柔性抛光垫将会对工件表面形成的氧化层机械去除，从而达到对高硬度、高化学稳定性的工件的抛光。
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公开(公告)号：CN110039405B
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN201910214766.2
申请日：2019-03-20
Applicant: 广东工业大学
IPC: B24B13/00 , B24B37/00 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B57/02
Abstract: 本发明涉及精密加工装置的技术领域，更具体地，涉及一种增压雾化喷淋装置、抛光装置及抛光方法，包括用于供应有压气体和浆液的气液供应组件、用于实现浆液增压和浆液雾化的浆液雾化组件以及喷洒角度可调的浆液喷洒组件，所述气液供应组件连通于所述浆液雾化组件的一端，所述浆液喷洒组件设置于浆液雾化组件的另一端。本发明的增压雾化喷淋装置，实现浆液流动的高速高压，解决了浆液的不均匀性、分散性差、浪费浆液等问题，使得浆液成分分散均匀，节约加工成本；本发明的抛光装置和抛光方法，使抛光浆液均匀喷淋在工件表面及抛光盘面上，从而实现对工件的超精密加工，且可通过调节蠕动泵转速和气源压力以满足不同抛光工件加工所
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107855834B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201711015113.9
申请日：2017-10-26
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开了一种高精度陶瓷球的滚动轴承式磁流变抛光装置，包括内圈筒(8)、外圈筒(1)和设置所述内圈筒和所述外圈筒(1)之间的陶瓷球保持架(3)，所述陶瓷球保持架(3)上设有陶瓷球容纳空间(5)，所述内圈筒(8)内部设有若干环形磁铁(7)，所述环形磁铁(7)之间设有定位块(4)，所述定位块(4)均匀设置在内圈筒(8)内；所述陶瓷球保持架(3)通过螺栓与所述内圈筒(8)连接,并与内圈筒(8)同心设置，所述外圈筒(1)与所述内圈筒(8)之间填充有磁流变抛光液(2)。本发明的抛光装置结合磁流变柔性抛光，可以高效地得到尺寸精度和形状精度俱佳的高质量光滑陶瓷球表面。
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公开(公告)号：CN115194564B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210769741.0
申请日：2022-07-01
Applicant: 广东工业大学
IPC: B24B1/00 , B24B29/02 , B24B41/047 , B24B7/22 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及超精密抛光技术领域，更具体地，涉及一种半导体晶片磁控研磨和抛光一体盘及其使用方法，包括金属基体、若干磁流变弹性体、磁场发生装置、磁场隔离板、底座，若干磁流变弹性体均装设于所述金属基体中，所述磁场发生装置装设于所述底座且位于磁流变弹性体下方，所述磁场隔离板可拆卸安装于金属基体与底座之间，金属基体与底座可拆卸连接。本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种半导体晶片磁控研磨和抛光一体盘，可实现一个工具盘能够满足晶片研磨和抛光两种工艺要求，在确保研磨质量与抛光质量的同时，可有效地减小更换工具盘和工件安装的时间，实现半导体晶片高效平坦化加工。
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公开(公告)号：CN114559302B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202210199935.1
申请日：2022-03-01
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明属于抛光技术领域，更具体地，涉及一种抛光液、磷化铟抛光装置及方法，其中抛光液包括基液以及混合于基液中的金属粉末、磨料；金属粉末与磨料的质量比为1:2～1:4，金属粉末的金属性弱于铟。本发明中一方面通过金属接触腐蚀反应将磷化铟表面氧化，从而降低磷化铟表面的硬度，其避免了使用酸性物质或碱性物质生成有毒气体危害工作人员安全或污染环境，同时还避免了抛光液对抛光装置的腐蚀。
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公开(公告)号：CN115415856A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202211052789.6
申请日：2022-08-31
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开了一种聚焦超声磁流变复合抛光方法及装置，抛光方法包括以下步骤：A、形成柔性抛光头；B、令工件的抛光面在抛光过程中始终被柔性抛光头包裹；C、使工件绕自身轴线转动，并使工件与柔性抛光头发生相对移动；D、通过超声换能器将超声振动聚焦，在工件和柔性抛光头的交界处形成至少两个超声聚焦区域，且超声聚焦区域均位于工件与柔性抛光头发生相对移动的范围内；E、保持工件绕自身轴线转动，并使工件在两个超声聚焦区域之间往复移动，直至工件抛光面的材料被完全去除。本方案提出的一种聚焦超声磁流变复合抛光方法，解决现有利用超声振动的抛光方法导致的工件表面的材料去除率不高、且容易导致工件表面出现损伤层的技术问题。
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公开(公告)号：CN113670757B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202110851996.7
申请日：2021-07-27
Applicant: 广东工业大学 , 广东纳诺格莱科技有限公司
Abstract: 本发明涉及磨耗测控的技术领域，更具体地，涉及一种摩擦磨损检测装置，包括机架、第一转动组件及第二转动组件，第一转动组件的输出端夹持有工件、第二转动组件的输出端连接有对磨盘，第一转动组件位于第二转动组件上方，工件与对磨盘相对转动并产生摩擦；还包括用于实现工件进给运动及往复运动的运动组件以及用于检测工件与对磨盘摩擦过程中产生的力学信号的测力组件，第一转动组件安装于运动组件，运动组件安装于机架，测力组件连接于第一转动组件。本发明通过设置工件与对磨盘之间的旋转运动、进给运动、往复运动，实时监测摩擦过程的扭矩、法向力和切向力，适合工件的各类摩擦磨损检测试验，有效改善了检测装置的多样性和适用性。
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