半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1953184A

    公开(公告)日:2007-04-25

    申请号:CN200610009208.5

    申请日:2006-02-15

    Inventor: 三浦寿良

    CPC classification number: H01L27/11502 H01L27/11507 H01L28/55

    Abstract: 提供一种半导体器件及其制造方法,该半导体器件包括:硅衬底;第绝缘膜,形成于硅衬底上;第一导电塞,形成于第一绝缘膜的第一接触孔内部;具有平坦表面的底层导电膜,形成于第一导电塞上及其周围;结晶导电膜,形成于底层导电膜上;以及电容器,通过在该结晶导电膜上依次叠置下电极、由铁电材料制成的介电膜和上电极而形成。

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