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公开(公告)号：CN103229102B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201180057434.X
申请日：2011-11-29
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/40 , Y10T428/24802
Abstract: 一种负型图案形成方法，抗蚀剂图案，电子元件及其制造方法。所述负型图案形成方法包含：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高树脂（A）的极性而使树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光从而形成经曝光的膜；以及（iii）用含有一或多种有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102822746A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180015598.6
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
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公开(公告)号：CN106200268A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610793819.7
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102844710B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102844710A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102812400B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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公开(公告)号：CN103229102A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180057434.X
申请日：2011-11-29
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/0397 , G03F7/325 , G03F7/40 , Y10T428/24802
Abstract: 一种负型图案形成方法，包含：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高树脂（A）的极性而使树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光从而形成经曝光的膜；以及（iii）用含有一或多种有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号：CN102812400A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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