-
公开(公告)号：CN102227682B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN200980147739.2
申请日：2009-11-27
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：(i)从有机溶剂系显影用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的步骤，所述抗蚀剂组合物含有(A)树脂，所述树脂能够通过酸的作用增加极性而降低在含有机溶剂的显影剂中的溶解度，和(B)能够在使用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(ii)曝光步骤；(iii)显影步骤，所述显影步骤使用含有机溶剂的显影剂；和(iv)洗涤步骤，所述洗涤步骤使用漂洗溶液，其中在所述步骤(iv)中，使用至少含有如说明书中所定义的溶剂S1或S2的漂洗溶液。
-
公开(公告)号：CN103814427A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201280045728.5
申请日：2012-09-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/44
CPC classification number: C09D11/38 , B41J11/0015 , B41J11/002 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08L33/00 , C09D11/101 , C09D11/30 , C09D133/16 , C09D183/06 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供压印用固化性组合物，所述压印用固化性组合物在固化膜的表面粗糙度方面被改善。一种压印用固化性组合物，包含聚合性化合物(A)、聚合引发剂(B)和非聚合性化合物(C)，所述非聚合性化合物(C)包含：至少一种含有20质量％以上的氟原子的表面活性剂(C1)，和至少一种含有3质量％以上且低于20质量％的氟原子和／或5质量％以上且低于40质量％的硅原子并且具有1，000至100，000的重均分子量(Mw)的聚合物(C2)。
-
公开(公告)号：CN102822746A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180015598.6
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
-
公开(公告)号：CN102812400B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102812400A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201180015971.8
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
-
公开(公告)号：CN102227682A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN200980147739.2
申请日：2009-11-27
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：(i)从有机溶剂系显影用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的步骤，所述抗蚀剂组合物含有(A)树脂，所述树脂能够通过酸的作用增加极性而降低在含有机溶剂的显影剂中的溶解度，和(B)能够在使用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(ii)曝光步骤；(iii)显影步骤，所述显影步骤使用含有机溶剂的显影剂；和(iv)洗涤步骤，所述洗涤步骤使用漂洗溶液，其中在所述步骤(iv)中，使用至少含有如说明书中所定义的溶剂S1或S2的漂洗溶液。
-
公开(公告)号：CN106200268A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610793819.7
申请日：2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
-
公开(公告)号：CN102844710B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
-
公开(公告)号：CN102844710A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201180010800.6
申请日：2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.059 seconds)
