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公开(公告)号：CN112752798A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201980062870.2
申请日：2019-09-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L79/08 , B32B15/088 , B32B27/34 , C08G59/32 , C08G73/10 , C08G73/12 , C08K3/011 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种树脂组合物、使用了树脂组合物的固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体组件，所述树脂组合物包含聚酰亚胺前体、热产碱剂和具有多个选自由环氧基、氧杂环丁基、羟甲基、烷氧基甲基、酚基、顺丁烯二酰亚胺基、氰酸酯基及封端异氰酸酯组成的群组中的官能基的热固化性化合物。
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公开(公告)号：CN105008996B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。本发明的上述技术特征确保在形成超细图案时，粗糙度性能及散焦性能高且分辨率及曝光宽容度卓越。
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公开(公告)号：CN104583869B
公开(公告)日：2019-05-10
申请号：CN201380044148.9
申请日：2013-08-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了一种图案形成方法，所述方法包括：通过使用放射线敏感或光化射线敏感树脂组合物形成膜，该组合物含有：(A)在阳离子部分中含有氮原子的盐化合物；(B)能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物；和(C)能够通过酸的作用增加极性而降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂，将所述膜曝光；以及通过使用含有有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影，以形成阴图式图案。
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公开(公告)号：CN105008996A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480011597.8
申请日：2014-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C311/06 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。
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公开(公告)号：CN102792229A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012438.6
申请日：2011-03-03
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 福原敏明
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其使得可能获得具有较少浮渣及水印缺陷的图案。所述图案形成方法包含以下步骤：自光化射线或辐射敏感性树脂组合物形成膜，所述树脂组合物包含：当经酸作用时在碱显影剂中展现提高的溶解性的树脂(A)、当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物(B)以及含有氟原子及硅原子中的至少一者的树脂(C)；使膜曝光；以及使用浓度小于2.38质量％的氢氧化四甲基铵溶液使经曝光的膜显影。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111919172B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN201980022753.3
申请日：2019-03-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物、固化膜、层叠体及它们的制造方法、半导体器件及在它们中使用的热产碱剂，上述感光性树脂组合物含有特定的热产碱剂、选自由聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体组成的组中的至少一种聚合物前体及感光剂，上述聚合物前体及上述感光剂中所含有的酸基和酸产生基团的合计含量为0.5mmol/g以下。
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公开(公告)号：CN111936930A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980021964.5
申请日：2019-03-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F2/48 , C08G73/10 , C08G73/12 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/037 , G03F7/095 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , C07C225/20 , C07C229/18
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件，其中，所述感光性树脂组合物含有含杂环聚合物的前体、热碱产生剂及自由基聚合性化合物，上述含杂环聚合物的前体具有自由基聚合性基团，上述自由基聚合性化合物包括选自如下组中的至少1个自由基聚合性化合物，该组中包含具有4个以上聚合性官能团的化合物及具有3个聚合性官能团并且分子量为400以下的化合物。
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公开(公告)号：CN104380195A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380032035.7
申请日：2013-06-26
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 本发明的图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影。RN-A-X+ (I)。
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公开(公告)号：CN112639616B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN201980057053.8
申请日：2019-08-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种发挥优异的环化率且保存稳定性也优异的感光性树脂组合物。并且，提供一种利用了上述感光性树脂组合物的固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件。感光性树脂组合物含有特定的热产碱剂和含杂环聚合物的前体，特定的热产碱剂具有羟基与酰胺结构(‑C(＝O)‑N＝)通过烃基L而连接的结构，L在L中的连接链的路径上具有饱和烃基，且连接链的路径上的原子数为3以上。
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公开(公告)号：CN112639616A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057053.8
申请日：2019-08-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种发挥优异的环化率且保存稳定性也优异的感光性树脂组合物。并且，提供一种利用了上述感光性树脂组合物的固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件。感光性树脂组合物含有特定的热产碱剂和含杂环聚合物的前体，特定的热产碱剂具有羟基与酰胺结构(‑C(＝O)‑N＝)通过烃基L而连接的结构，L在L中的连接链的路径上具有饱和烃基，且连接链的路径上的原子数为3以上。
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