公开(公告)号：CN105008996B

公开(公告)日：2019-10-15

申请号：CN201480011597.8

申请日：2014-02-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 片冈祥平 ,  渉谷明规 ,  福原敏明 ,  古谷创 ,  白川三千纮

IPC: G03F7/004 ,  C07C311/06 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。本发明的上述技术特征确保在形成超细图案时，粗糙度性能及散焦性能高且分辨率及曝光宽容度卓越。

公开(公告)号：CN105008996A

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201480011597.8

申请日：2014-02-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 片冈祥平 ,  渉谷明规 ,  福原敏明 ,  古谷创 ,  白川三千纮

IPC: G03F7/004 ,  C07C311/06 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，包括(i)形成含有感光化射线性或感放射线性树脂组合物的膜的步骤，所述组合物含有由特定式表示的化合物(A)，不同于化合物(A)且能够在用光化射线或放射线照射后生成酸的化合物(B)，以及不与由化合物(A)生成的酸反应且能够通过化合物(B)生成的酸的作用降低对含有机溶剂的显影剂的溶解度的树脂(P)，(ii)使膜曝光的步骤，以及(iii)通过使用含有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影从而形成负型图案的步骤；上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物；一种使用所述组合物的抗蚀剂膜。