Patent search ap:("富士电机电子技术株式会社" OR "学校法人早稻田大学") AND inv:"梶原里美" Page 1

1.

发明公开
图案化磁记录介质的制造方法无效转让

公开(公告)号：CN101521023A

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200910006814.5

申请日：2009-02-27

Applicant: 富士电机电子技术株式会社 , 学校法人早稻田大学

Inventor： 梶原里美 , 庄子习一 , 水野润 , 篠原秀敏

IPC: G11B5/855 , G11B5/74

CPC classification number: G11B5/855

Abstract: 本发明提供一种图案化的磁记录介质的制造方法，包括不使磁性层(3)的磁特性劣化地彻底剥离磁性层(3)上的刻蚀抗蚀剂的工序，刻蚀抗蚀剂是在磁性层(3)的刻蚀中使用的。其特征在于，在磁性层(3)的刻蚀中所使用的刻蚀抗蚀剂的剥离工序包括下述工序：在减压下，向此磁性层(3)或第1保护层(4)上的抗蚀剂照射受激准分子VUV激光的工序；以及将残留在磁性层(3)或第1保护层(4)上的抗蚀剂覆膜(5)浸渍到抗蚀剂剥离剂溶液中并清洗去除的工序。

Patent Agency Ranking