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公开(公告)号:CN119900079A
公开(公告)日:2025-04-29
申请号:CN202510395229.8
申请日:2025-03-31
Applicant: 季华实验室
IPC: C30B25/12 , C30B23/06 , C30B25/10 , C30B25/16 , C23C14/50 , C23C14/54 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01S5/183 , G01N23/20 , G01N21/63 , G01B11/06 , G01B15/02
Abstract: 本申请属于分子束外延设备领域,公开了一种分子束外延设备及垂直腔面激光器生长方法,通过在同一托盘上同时生长正式产品和测试结构,并使用遮挡装置控制测试结构的生长,解决了现有技术中需要单独生长测试结构或复杂处理正式产品的问题,具有节省时间和源料、提高生长参数控制精度、便于问题定位的优点。