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公开(公告)号：CN114753000A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210399479.5
申请日：2022-04-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体公开了一种外延炉的衬底装载装置及上下料系统，其中，该装置包括：装载室，所述装载室内具有与外界隔绝的装载腔；托盘，安装在所述装载腔内；片盒，设置在所述托盘上，用于存放所述衬底；所述装置还包括：顶杆，设置在所述装载室外；磁力件，固定在所述顶杆上，且与所述装载室内的所述托盘磁性相吸；升降机构，安装在所述装载室外，与所述顶杆连接；该装置实现了对装载室内托盘的无接触式驱动，从而保留了装载室的完整性，提高了装载室的密封度。
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公开(公告)号：CN119265698A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411789793.X
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
IPC: C30B25/12 , C30B25/08 , C30B25/14 , C30B25/16 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/52
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体提供了一种转速可调的载盘旋转系统、方法及外延炉，该系统包括：上半月石墨腔体；下半月石墨腔体，其内设有空腔和旋转气道；载盘；传动桨轴，其轴心与旋转气道的进气道错开；多个传动桨叶；多个测速叶；旋转气体供应组件；转速测量组件；控制器，用于在外延生长时，控制旋转气体供应组件向旋转气道内供应旋转气体，并根据载盘转速信息和预设转速调节旋转气体供应组件向旋转气道内供应的旋转气体的流量，直至载盘转速信息与预设转速相同；该系统能够解决由于气浮气体对下半月石墨腔体刻蚀时产生的石墨粉尘进入反应腔内而导致反应腔的洁净度下降以及外延片上生长的外延层的缺陷增多的问题和精确控制载盘的转速。
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公开(公告)号：CN119191164A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411724950.9
申请日：2024-11-28
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及半导体装备技术领域，特别是一种粒子直线加速器辅助拆装装置，其包括机架、升降架、驱动装置和旋转支架，升降架设置在机架上，驱动装置设置在升降架的活动端上，旋转支架包括支撑座、辊轴和辊轮，辊轴呈V形布置在支撑座上，辊轮可滑动地套接在辊轴上，辊轮用于放置粒子直线加速管，驱动装置带动旋转支架摆动，升降架带动支撑座上下移动。本辅助拆装装置融合了升降和倾斜功能，能够应对两端安装孔位不在同一水平线的情况。通过辊轴和辊轮的配合，粒子加速管不仅可以在支撑座上沿轴向方向移动，还可以围绕辊轴进行旋转，从而适应各种安装需求。
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公开(公告)号：CN114753000B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202210399479.5
申请日：2022-04-15
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体公开了一种外延炉的衬底装载装置及上下料系统，其中，该装置包括：装载室，所述装载室内具有与外界隔绝的装载腔；托盘，安装在所述装载腔内；片盒，设置在所述托盘上，用于存放所述衬底；所述装置还包括：顶杆，设置在所述装载室外；磁力件，固定在所述顶杆上，且与所述装载室内的所述托盘磁性相吸；升降机构，安装在所述装载室外，与所述顶杆连接；该装置实现了对装载室内托盘的无接触式驱动，从而保留了装载室的完整性，提高了装载室的密封度。
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公开(公告)号：CN115201057A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210564195.7
申请日：2022-05-23
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及化学气相沉积技术领域，具体提供了一种气体流场均匀性检测系统及方法，其包括：驱动组件；检测盘，其包括承载台、气压传感器和至少一种气体浓度传感器，气压传感器和气体浓度传感器均设置在承载台上，气压传感器用于采集生成气压信息，气体浓度传感器用于采集生成对应的原料气体的浓度信息；控制器，与气压传感器、气体浓度传感器和驱动组件电性连接，用于控制驱动组件间隙性地驱动承载台旋转预设的第一角度，还用于根据气压传感器在不同位置采集生成的气压信息检测混合气体是否均匀，还用于根据气体浓度传感器在不同位置采集生成的浓度信息检测对应的原料气体是否均匀；该系统能够有效地提高外延生长的膜厚均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113718333B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202111020536.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体明公开了一种外延炉的匀气盒及气体输送组件，其中，匀气盒，用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：盒体，盒体长度为10‑30cm，盒体内设有若干沿其长度方向设置的气孔，若干气孔包括若干小孔和若干大孔，若干大孔对称分设于小孔两侧；该匀气盒长度为10‑30cm，能使反应气体沿着气孔在盒体中进行输送从而形成若干道平行流动的反应气体气流，确保匀气盒输出的反应气体稳定不紊乱，使得晶体生长更均匀，同时采将气孔布置为中间小、两侧大的形式，使得两侧边缘气流的流速高于传统导气筒导出的两侧边缘气流的流速，从而解决衬底边缘的温度均匀性差的问题。
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公开(公告)号：CN114753001A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210481219.2
申请日：2022-05-05
Applicant: 季华实验室
IPC: C30B25/08 , C30B25/16 , C30B25/14 , C30B25/12 , C23C16/52 , C23C16/458 , C23C16/455
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体提供了一种外延沉积反应室、沉积系统及沉积方法，其包括：所述反应室包括上半月石墨腔体和下半月石墨腔体，所述上半月石墨腔体两侧通过侧壁支撑石墨件与所述下半月石墨腔体连接，以围合构成气体反应腔，所述上半月石墨腔体的底壁具有多条平行设置的冷却流道，所述上半月石墨腔体一侧设有与所述冷却流道连接的冷却气体提供组件，所述冷却气体提供组件用于在所述反应室进行外延生长时为所述冷却流道提供所述冷却气体；该外延沉积反应室能够有效地减少由于反应气体在上半月石墨腔体的底壁发生化学反应而形成晶体的情况。
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公开(公告)号：CN114753001B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202210481219.2
申请日：2022-05-05
Applicant: 季华实验室
IPC: C30B25/08 , C30B25/16 , C30B25/14 , C30B25/12 , C23C16/52 , C23C16/458 , C23C16/455
Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体提供了一种外延沉积反应室、沉积系统及沉积方法，其包括：所述反应室包括上半月石墨腔体和下半月石墨腔体，所述上半月石墨腔体两侧通过侧壁支撑石墨件与所述下半月石墨腔体连接，以围合构成气体反应腔，所述上半月石墨腔体的底壁具有多条平行设置的冷却流道，所述上半月石墨腔体一侧设有与所述冷却流道连接的冷却气体提供组件，所述冷却气体提供组件用于在所述反应室进行外延生长时为所述冷却流道提供所述冷却气体；该外延沉积反应室能够有效地减少由于反应气体在上半月石墨腔体的底壁发生化学反应而形成晶体的情况。
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公开(公告)号：CN113897674A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202111187818.5
申请日：2021-10-12
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长领域，具体公开了一种多腔式碳化硅外延设备及其反应室机构，其中，反应室机构包括：反应室本体、快拆装置、平移机构和控制器，控制器用于控制所述快拆装置的开合以改变所述反应室本体与所述传输机构的连接状态，还用于在所述快拆装置处于打开状态时，控制所述平移机构运动以使所述反应室本体靠近或远离所述传输机构移动；该反应室机构利用快拆装置连接反应室本体和传输机构，使得控制器能迅速改变反应室本体和传输机构的连接状态，反应室本体底部设置由控制器控制运行的平移机构，使得反应室本体在清洗维护前能迅速完成移动操作，从而有效缩短了整个反应室机构清洗维护的时间。
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公开(公告)号：CN113718333A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202111020536.6
申请日：2021-09-01
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域，具体明公开了一种外延炉的匀气盒及气体输送组件，其中，匀气盒，用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：用于朝外延炉的反应室输送反应气体，包括：盒体，盒体长度为10‑30cm，盒体内设有若干沿其长度方向设置的气孔，若干气孔包括若干小孔和若干大孔，若干大孔对称分设于小孔两侧；该匀气盒长度为10‑30cm，能使反应气体沿着气孔在盒体中进行输送从而形成若干道平行流动的反应气体气流，确保匀气盒输出的反应气体稳定不紊乱，使得晶体生长更均匀，同时采将气孔布置为中间小、两侧大的形式，使得两侧边缘气流的流速高于传统导气筒导出的两侧边缘气流的流速，从而解决衬底边缘的温度均匀性差的问题。
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